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J-GLOBAL ID：201003049571510915

加水素水の製造方法

Inventor：
松岡 大悟

About 松岡 大悟

, 
原田 利典

About 原田 利典

, 
早間 隆弘

About 早間 隆弘


Applicant, Patent owner：
広島化成株式会社

About 広島化成株式会社


Agent (1)： 山口 慎太郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009116002
Publication number (International publication number)：2010029841
Application date： May. 12, 2009
Publication date： Feb. 12, 2010
Summary：
【課題】装置構成を小型化して取扱性を向上させた加水素水の製造装置を用いて、目的とする酸化還元電位の加水素水を容易に製造する方法を提供する。【解決手段】エジェクタ効果により原料水に水素ガスを混合させた混合流体を生成し、該混合流体を多孔質要素に通過させることで水素ガスの微細気泡を含有する加水素水を連続して製造する加水素水製造部5を具備してなる加水素水の製造装置1を用いた加水素水の製造方法であって、加水素水製造部5に、水素ガス用の原料水を電気分解して水素ガスを発生させる一又は複数の水素ガス発生部2で発生された水素ガスと、機外の原料水供給源から供給される加水素水用の原料水とを供給し、水素ガスの流量と原料水の流量とを対比して、加水素水製造部5にて製造される加水素水が所定範囲の酸化還元電位となるように、予め所定流量に調整された原料水に対して水素ガスを所定流量に調整する。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
エジェクタ効果により原料水に水素ガスを混合させた混合流体を生成し、該混合流体を多孔質要素に通過させることで水素ガスの微細気泡を含有する加水素水を連続して製造する加水素水製造部を具備してなる加水素水の製造装置を用いた加水素水の製造方法であって、 前記加水素水製造部に、水素ガス用の原料水を電気分解して水素ガスを発生させる一又は複数の水素ガス発生部で発生された水素ガスと、機外の原料水供給源から供給される加水素水用の原料水とを供給し、 水素ガスの流量と原料水の流量とを対比して、前記加水素水製造部にて製造される加水素水が所定範囲の酸化還元電位となるように、予め所定流量に調整された原料水に対して水素ガスを所定流量に調整する、 ことを特徴とする加水素水の製造方法。
IPC (7)：
C02F 1/68 ,  B01F 1/00 ,  B01F 3/04 ,  B01F 5/10 ,  B01F 5/06 ,  B01F 5/04 ,  C25B 1/10
FI (11)：
C02F1/68 520B ,  C02F1/68 510B ,  C02F1/68 530A ,  B01F1/00 A ,  B01F3/04 F ,  C02F1/68 530K ,  C02F1/68 530L ,  B01F5/10 ,  B01F5/06 ,  B01F5/04 ,  C25B1/10
F-Term (10)：
4G035AA02 ,  4G035AB20 ,  4G035AC22 ,  4G035AC26 ,  4G035AC29 ,  4K021AA01 ,  4K021BA02 ,  4K021BC07 ,  4K021DB31 ,  4K021DB43
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (4)
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