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J-GLOBAL ID：201003059311085337

処理装置の管理システム

Inventor：
井上 永博

About 井上 永博

, 
梅沢 明雄

About 梅沢 明雄


Applicant, Patent owner：
株式会社アルバック

About 株式会社アルバック


Agent (1)： 特許業務法人青莪
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008261369
Publication number (International publication number)：2010093047
Application date： Oct. 08, 2008
Publication date： Apr. 22, 2010
Summary：
【課題】 半導体製造工程で用いられる複数の処理装置を統括管理するための管理システムを、設定値パターンの入力を簡素化しつつデータ量を少なくできるようにして使い勝手のよいものとする。【解決手段】 各処理装置1に設けたセンサ6を介して取得した管理情報の取得波形データAWと、取得しようする管理情報に対応して予め記憶された設定波形データSWとを比較し、所定の閾値を超えて設定波形データから取得波形データが逸脱すると、異常検知と判断する。設定波形データの全てが初期状態から定常状態に向う上昇波形データuwと定常状態たる安定波形データnwとに区分され、この区分された上昇波形データ及び安定波形データ毎に、取得波形データとの比較による異常検知の判断を行うことで、レシピに関係なく設定波形データを集約管理する。【選択図】 図3
Claim (excerpt)：
所定の処理を行う複数の処理装置にて行われる各処理を統括管理するための処理装置の管理システムであって、 各処理装置に設けたセンサを介して取得した管理情報の取得波形データと、取得しようする管理情報に対応して予め記憶された設定波形データとを比較し、所定の閾値を超えて設定波形データから取得波形データが逸脱すると、異常検知と判断するようにしたものにおいて、 前記設定波形データの全てが初期状態から定常状態に向う上昇波形データと定常状態たる安定波形データとに区分され、この区分された上昇波形データ及び安定波形データ毎に、取得波形データとの比較による異常検知の判断を行うことを特徴とする処理装置の管理システム。
IPC (4)：
H01L 21/02 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 ,  G05B 19/418
FI (4)：
H01L21/02 Z ,  H01L21/205 ,  H01L21/31 B ,  G05B19/418 Z
F-Term (7)：
3C100AA56 ,  3C100BB27 ,  3C100EE06 ,  5F045AA03 ,  5F045BB08 ,  5F045GB05 ,  5F045GB16
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (3)
  • 異常検出方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-269060   Applicant：株式会社日立国際電気
  • 基板処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-084513   Applicant：株式会社日立国際電気
  • 制御装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-266123   Applicant：三菱電機株式会社

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