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J-GLOBAL ID：201003063196263509

液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法

Inventor：
竹下 優

About 竹下 優

, 
熊田 信次

About 熊田 信次


Applicant, Patent owner：
東京応化工業株式会社

About 東京応化工業株式会社


Agent (4)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008260865
Publication number (International publication number)：2010091731
Application date： Oct. 07, 2008
Publication date： Apr. 22, 2010
Summary：
【課題】膜表面の疎水性が高いレジスト膜を形成でき、液浸露光用として好適なレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供すること。【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)および含フッ素化合物成分(F)を有機溶剤(S)に溶解してなる液浸露光用レジスト組成物であって、前記有機溶剤(S)は、沸点150°C以上のアルコール系有機溶剤(S1)と、沸点150°C未満のアルコール系有機溶剤(S2)とを含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)および含フッ素化合物成分(F)を有機溶剤(S)に溶解してなる液浸露光用レジスト組成物であって、 前記有機溶剤(S)は、沸点150°C以上のアルコール系有機溶剤(S1)と、沸点150°C未満のアルコール系有機溶剤(S2)とを含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。
IPC (7)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/38 ,  H01L 21/027 ,  C08F 220/18 ,  C08F 220/28 ,  C08F 220/22
FI (7)：
G03F7/004 501 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/38 501 ,  H01L21/30 502R ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  C08F220/22
F-Term (47)：
2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CC03 ,  2H025CC20 ,  2H025FA01 ,  2H025FA10 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096DA04 ,  2H096EA03 ,  2H096EA05 ,  2H096EA06 ,  2H096EA07 ,  2H096EA23 ,  2H096FA01 ,  2H096GA08 ,  2H096JA02 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100BA03Q ,  4J100BA11S ,  4J100BA22R ,  4J100BB18P ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09R ,  4J100BC53S ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100JA37
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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