位相シフト法による計測方法と装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：廣澤勲
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003301655
Publication number (International publication number)：2005069942
Application date： Aug. 26, 2003
Publication date： Mar. 17, 2005
Summary：

【課題】装置を小型化するとともに測定精度も高い位相シフト法による計測装置を提供する。【解決手段】第1の波長の光を出射する第1のLED12と、第1のLED12が出射する第1の波長の光と異なる第2の波長の光を、第1のLED12からの第1の波長の光に対して所定時間間隔で出射する第2のLED22とを有する。測定対象物36を、第1および第2のLED12,22からの光が進行する方向に沿って移動させる移動テーブル34と、第1および第2のLED12,22からの光を、測定対象物36に向かう光から参照鏡38に向けて分岐し、参照鏡38で反射された光を、再びLED12、22からの光の光路に戻す半透明鏡32を備える。測定対象物36で反射された光により得られる反射光と参照鏡38で反射された反射光とにより生成される干渉光を、画像として撮像するCCDカメラ40を備える。CCDカメラ40の各画素毎の複数の出力画像から計算される位相値の差、およびその画像の取り込み時点での位相値に基づいて、測定対象物の表面の凹凸形状を計測する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

位相シフト法を用いて測定対象物からの反射光と参照鏡からの反射光とにより形成される干渉画像の位相値を計算し、この位相値から光路差を求め、その光路差から測定対象物の形状を求める位相シフト法による計測方法において、波長の異なる光を出す2つのLEDからの光を別々に所定時間間隔で、測定対象物の表面の所定範囲に照射し、その2つの光の測定対象物からの反射光と参照鏡からの反射光とが重なって生成される干渉画像を、半導体イメージセンサにより撮像し、その際に、上記測定対象物を上記LED光が進む方向に沿って移動させ、その位相シフト量を、ほぼπ×n(nは1以上の整数)±π/4前後としたことを特徴とする位相シフト法による計測方法。

IPC (1)：

G01B11/24

FI (1)：

G01B11/24 D

F-Term (16)：

2F065AA53 , 2F065BB05 , 2F065DD06 , 2F065FF52 , 2F065GG07 , 2F065GG23 , 2F065HH13 , 2F065JJ03 , 2F065JJ09 , 2F065JJ26 , 2F065LL12 , 2F065LL22 , 2F065LL46 , 2F065PP12 , 2F065QQ25 , 2F065UU07

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

光干渉を用いた形状測定方法および形状測定装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-267786 Applicant：金沢大学長

Cited by examiner (10)

多波長位相干渉法及び多波長位相干渉計
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-328321 Applicant：株式会社東京精密
光干渉を用いた形状測定方法および形状測定装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-267786 Applicant：金沢大学長
多波長光ヘテロダイン干渉測定方法および装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-028329 Applicant：キヤノン株式会社

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