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J-GLOBAL ID：201003079871775488

被めっき層形成用組成物、金属パターン材料の作製方法及びそれにより得られた金属パターン材料、表面金属膜材料の作製方法及びそれにより得られた表面金属膜材料

Inventor：
加納 丈嘉

About 加納 丈嘉


Applicant, Patent owner：
富士フイルム株式会社

About 富士フイルム株式会社


Agent (4)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一 ,  福田 浩志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008249209
Publication number (International publication number)：2010077322
Application date： Sep. 26, 2008
Publication date： Apr. 08, 2010
Summary：
【課題】基板との密着性に優れた被めっき層を形成し得る被めっき層形成用組成物等の提供。【解決手段】ラジカル重合性基、10≦pKa≦16の炭素原子に直接結合した活性水素を有する官能基、及びイオン性吸着基を有するポリマーを含有する被めっき層形成用組成物等を提供する。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
ラジカル重合性基、10≦pKa≦16の炭素原子に直接結合した活性水素を有する官能基、及びイオン性吸着基を有するポリマーを含有する被めっき層形成用組成物。
IPC (4)：
C08F 220/34 ,  C23C 18/20 ,  H05K 3/18 ,  H05K 3/38
FI (5)：
C08F220/34 ,  C23C18/20 Z ,  H05K3/18 A ,  H05K3/18 E ,  H05K3/38 A
F-Term (73)：
4J100AJ02P ,  4J100AJ02R ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL09Q ,  4J100BA03H ,  4J100BA12P ,  4J100BA12Q ,  4J100BA15H ,  4J100BA15P ,  4J100BA15R ,  4J100BA16Q ,  4J100BA34H ,  4J100BA35R ,  4J100BA40P ,  4J100BA40Q ,  4J100BA46Q ,  4J100BC04R ,  4J100CA05 ,  4J100CA31 ,  4J100DA01 ,  4J100HA62 ,  4J100HC01 ,  4J100HC51 ,  4J100HE41 ,  4J100JA43 ,  4K022AA02 ,  4K022AA12 ,  4K022AA13 ,  4K022AA42 ,  4K022BA01 ,  4K022BA02 ,  4K022BA06 ,  4K022BA08 ,  4K022BA09 ,  4K022BA14 ,  4K022BA17 ,  4K022BA18 ,  4K022BA21 ,  4K022CA02 ,  4K022CA09 ,  4K022CA16 ,  4K022CA19 ,  4K022CA20 ,  4K022CA21 ,  4K022DA01 ,  4K022DB02 ,  4K022DB03 ,  4K022DB04 ,  4K022DB05 ,  4K022DB06 ,  4K022DB07 ,  4K022EA04 ,  5E343AA12 ,  5E343AA17 ,  5E343AA18 ,  5E343AA38 ,  5E343BB23 ,  5E343BB24 ,  5E343BB34 ,  5E343BB44 ,  5E343BB48 ,  5E343CC01 ,  5E343CC22 ,  5E343CC72 ,  5E343CC73 ,  5E343DD33 ,  5E343EE02 ,  5E343EE13 ,  5E343EE34 ,  5E343ER04 ,  5E343GG02
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2) Cited by examiner (5)
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