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J-GLOBAL ID：201102236740431327   Reference number：11A1123562

Dynamics of Radical Cation of Poly(styrene acrylate)-Based Chemically Amplified Resist for Extreme Ultraviolet and Electron Beam Lithography

極端紫外線及び電子ビームリソグラフィー用のポリ(スチレンアクリレート)系化学増幅レジストのラジカルカチオンの動力学

Author (10)： TAJIMA Yasuharu (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN) ,  TAJIMA Yasuharu (JST-CREST, Saitama, JPN) ,  OKAMOTO Kazumasa (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN) ,  OKAMOTO Kazumasa (JST-CREST, Saitama, JPN) ,  KOZAWA Takahiro (JST-CREST, Saitama, JPN) ,  KOZAWA Takahiro (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  TAGAWA Seiichi (JST-CREST, Saitama, JPN) ,  TAGAWA Seiichi (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  FUJIYOSHI Ryoko (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN) ,  SUMIYOSHI Takashi (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics  (JJAP)
Volume： 50  Issue： 6,Issue 2  Page： 06GD03.1-06GD03.3  Publication year： Jun. 25, 2011 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： electron beam lithography ,  extreme ultraviolet ,  *photolithography ,  *chemically amplified resist ,  *cation radical ,  polystyrene ,  degree of polymerization ,  copolymerization ,  copolymer ,  aliphatic carboxylic acid ,  olefin compound ,  unsaturated carboxylic acid ,  carboxylate(ester)

JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Substance index (1)： Methacrylic acid methyl

Reference (22)：

• 1) H. Ito: Advances in Polymer Science (Springer, Heidelberg, 2005) Vol. 172, p. 37.
• 2) T. Kozawa and S. Tagawa: Jpn. J. Appl. Phys. 49 (2010) 030001.
• 3) S. Irie, H. Horii, and M. Irie: Macromolecules 13 (1980) 1355.
• 4) S. Tagawa: Int. J. Radiat. Appl. Instrum. C 27 (1986) 455.
• 5) K. Okamoto, T. Kozawa, Y. Yoshida, and S. Tagawa: Radiat. Phys. Chem. 60 (2001) 417.

Terms in the title (6)： 極端紫外線 ,  電子ビームリソグラフィー ,  系 ,  化学増幅レジスト ,  ラジカルカチオン ,  動力学