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J-GLOBAL ID：201102265878750199   Reference number：11A1123489

Liquid Phase Deposition of Carbon Nitride Films for Application as Low-k Insulating Materials

低k絶縁材料としての適用のための窒化炭素薄膜の液相堆積

Author (4)： HIGASHI Mikiteru (Tokai Univ., Kumamoto, JPN) ,  KIYOTA Hideo (Tokai Univ., Kumamoto, JPN) ,  KUROSU Tateki (Tokai Univ., Kanagawa, JPN) ,  CHIBA Masafumi (Tokai Univ., Shizuoka, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics  (JJAP)
Volume： 50  Issue： 6,Issue 1  Page： 061502.1-061502.5  Publication year： Jun. 25, 2011 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *carbon compound ,  *nitride ,  *insulating material ,  permittivity ,  X-ray photoelectron spectrum ,  thin film ,  C-N bond ,  hydrogenation ,  part ,  electrostatic capacity ,  *insulator ,  carbon nitride

JST classification (1)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A)

Reference (19)：

• 1) K. Maex, M. R. Baklanov, D. Shamiryan, F. Iacopi, S. H. Brongersma, and Z. S. Yanovitskaya: J. Appl. Phys. 93 (2003) 8793.
• 2) H. Aoki, T. Masuzumi, M. Hara, D. Watanabe, C. Kimura, and T. Sugino: Thin Solid Films 518 (2010) 2102.
• 3) S. Tokuyama, M. Hara, M. K. Mazumder, D. Watanabe, C. Kimura, H. Aoki, and T. Sugino: Jpn. J. Appl. Phys. 47 (2008) 2492.
• 4) Z. L. Wang, J. J. Li, Z. H. Sun, Y. L. Li, Q. Luo, C. Z. Gu, and Z. Cui: Appl. Phys. Lett. 90 (2007) 133118.
• 5) A. Grill and V. Patel: J. Appl. Phys. 104 (2008) 024113.

Terms in the title (5)： 絶縁材料 ,  窒化 ,  炭素薄膜 ,  液相 ,  堆積