Pat
J-GLOBAL ID:201103004630424126

ダイヤモンド半導体素子およびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 特許業務法人 谷・阿部特許事務所
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2011084110
Publication number (International publication number):2011225440
Application date: Apr. 05, 2011
Publication date: Nov. 10, 2011
Summary:
【課題】室温(300K)以上において正孔濃度が1.0×1015cm-3以上で、かつ、ドーパント原子濃度が1.0×1021cm-3以下である実用的なp型ダイヤモンド半導体デバイスとその製造方法を提供すること。【解決手段】単結晶ダイヤモンド基板1-1の上に形成された単結晶ダイヤモンド薄膜1-2の中には、二次元の正孔または電子チャンネル1-3が形成される。基板1-1の面方位と基板1-1の結晶軸「001」方向との成す角度をαs、ダイヤモンド薄膜1-2の面方位と単結晶ダイヤモンド薄膜1-2の結晶軸「001」方向との成す角度をαd、チャンネル1-3の面方位とダイヤモンド薄膜1-2の結晶軸「001」方向との成す角度をαcとする。単結晶ダイヤモンド薄膜1-2の表面上には、ソース電極1-4、ゲート電極1-5、ドレイン電極1-6が形成される。【選択図】図1B
Claim (excerpt):
ドーパント元素としてAl、Be、Ca、Cd、Ga、In、Li、Mg及びZnのいずれかを含有することを特徴とするp型ダイヤモンド半導体。
IPC (8):
C30B 29/04 ,  H01L 21/338 ,  H01L 29/812 ,  H01L 29/16 ,  H01L 29/861 ,  H01L 21/331 ,  H01L 29/732 ,  H01L 21/205
FI (7):
C30B29/04 R ,  H01L29/80 B ,  H01L29/16 ,  H01L29/91 F ,  H01L29/72 P ,  H01L29/80 L ,  H01L21/205
F-Term (68):
4G077AA02 ,  4G077AA03 ,  4G077BA03 ,  4G077DB01 ,  4G077EB01 ,  4G077EC09 ,  4G077ED06 ,  4G077FD02 ,  4G077HA06 ,  4G077HA12 ,  4G077TA04 ,  4G077TA06 ,  4G077TK01 ,  5F003AZ01 ,  5F003BA92 ,  5F003BE90 ,  5F003BJ03 ,  5F003BM01 ,  5F003BP31 ,  5F003BP41 ,  5F003BP94 ,  5F003BZ01 ,  5F003BZ02 ,  5F003BZ03 ,  5F045AA09 ,  5F045AB07 ,  5F045AC08 ,  5F045AD11 ,  5F045AE23 ,  5F045AF02 ,  5F045AF03 ,  5F045BB12 ,  5F045CA01 ,  5F045CA05 ,  5F045CA06 ,  5F045DA63 ,  5F045HA16 ,  5F102FA01 ,  5F102FA02 ,  5F102GB01 ,  5F102GC01 ,  5F102GD01 ,  5F102GJ02 ,  5F102GJ03 ,  5F102GL04 ,  5F102GR01 ,  5F102GR12 ,  5F102GS04 ,  5F102GS07 ,  5F102GT02 ,  5F102GT03 ,  5F102GT04 ,  5F102HC01 ,  5F102HC16 ,  5F102HC19 ,  5F102HC21 ,  5F140AA05 ,  5F140BA04 ,  5F140BA16 ,  5F140BA20 ,  5F140BB15 ,  5F140BC06 ,  5F140BC12 ,  5F140BF01 ,  5F140BF05 ,  5F140BJ05 ,  5F140BK29 ,  5F140CB04
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (12)
Show all

Return to Previous Page