感活性光線または感放射線性樹脂組成物を用いたパターン形成方法及びパターン

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (18)：蔵田昌俊 , 河野哲 , 中村誠 , 福原淑弘 , 峰隆司 , 白根俊郎 , 村松貞男 , 野河信久 , 幸長保次郎 , 河野直樹 , 砂川克 , 勝村紘 , 佐藤立志 , 岡田貴志 , 堀内美保子 , 竹内将訓 , 市原卓三 , 山下元
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010123542
Publication number (International publication number)：2011123469
Application date： May. 28, 2010
Publication date： Jun. 23, 2011
Summary：

【課題】高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(LWR)、フォーカス余裕度(DOF)およびパターン形状に優れる感活性光線または感放射線性樹脂組成物組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供すること。【解決手段】感活性光線または感放射線樹脂組成物を基板上に塗布して膜を形成する工程、マスクを介して該膜を選択的に露光する工程、及び有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程を含むパターン形成方法であり、該感活性光線または感放射線樹脂組成物が、(A)酸の作用により極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解度が減少する樹脂、(B)活性光線または放射線の照射によりフッ素原子を含有する酸を発生する光酸発生剤、および(C)溶剤を含有してなり、光酸発生剤(B)の含有率が、該組成物の全固形分を基準として8〜20質量%であるパターン形成方法。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

感活性光線または感放射線樹脂組成物を基板上に塗布して膜を形成する工程、マスクを介して該膜を選択的に露光する工程、及び有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程を含むパターン形成方法であり、該感活性光線または感放射線樹脂組成物が、(A)酸の作用により極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解度が減少する樹脂、(B)活性光線または放射線の照射によりフッ素原子を含有する酸を発生する光酸発生剤、および(C)溶剤を含有してなり、光酸発生剤(B)の含有率が、該組成物の全固形分を基準として8〜20質量%であるパターン形成方法。

IPC (6)：

G03F 7/004 , G03F 7/038 , G03F 7/039 , G03F 7/32 , H01L 21/027 , C08F 20/28

FI (7)：

G03F7/004 503A , G03F7/038 601 , G03F7/039 601 , G03F7/32 , G03F7/32 501 , H01L21/30 502R , C08F20/28

F-Term (108)：

2H096AA25 , 2H096BA06 , 2H096BA11 , 2H096EA05 , 2H096GA04 , 2H096GA09 , 2H096GA18 , 2H125AF16P , 2H125AF17P , 2H125AF18P , 2H125AF19P , 2H125AF20P , 2H125AF21P , 2H125AF22P , 2H125AF36P , 2H125AF38P , 2H125AF39P , 2H125AF45P , 2H125AF70P , 2H125AH12 , 2H125AH14 , 2H125AH15 , 2H125AH19 , 2H125AH22 , 2H125AH24 , 2H125AH25 , 2H125AH29 , 2H125AJ14X , 2H125AJ16Y , 2H125AJ63X , 2H125AJ64X , 2H125AJ65X , 2H125AJ66X , 2H125AJ68X , 2H125AJ69X , 2H125AJ70X , 2H125AJ92Y , 2H125AM12P , 2H125AM22P , 2H125AM27P , 2H125AM32P , 2H125AM86P , 2H125AM94P , 2H125AM99P , 2H125AN31P , 2H125AN38P , 2H125AN39P , 2H125AN42P , 2H125AN54P , 2H125AN57P , 2H125AN62P , 2H125AN65P , 2H125AN67P , 2H125AN86P , 2H125BA01P , 2H125BA02P , 2H125BA32P , 2H125BA33P , 2H125CA12 , 2H125CB09 , 2H125CC01 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 2H125FA03 , 2H125FA05 , 2H125FA23 , 4J100AJ02S , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AL08S , 4J100AM21S , 4J100BA03P , 4J100BA03R , 4J100BA04P , 4J100BA04Q , 4J100BA11P , 4J100BA15P , 4J100BA15Q , 4J100BA16P , 4J100BA16S , 4J100BA20Q , 4J100BA40P , 4J100BA40R , 4J100BA58S , 4J100BB00P , 4J100BC02P , 4J100BC03Q , 4J100BC04Q , 4J100BC07Q , 4J100BC07R , 4J100BC08Q , 4J100BC08R , 4J100BC08S , 4J100BC09Q , 4J100BC09R , 4J100BC09S , 4J100BC12Q , 4J100BC53P , 4J100BC58P , 4J100BC84P , 4J100CA03 , 4J100CA05 , 4J100CA06 , 4J100DA01 , 4J100DA04 , 4J100FA19 , 4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

ネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2007-190971 Applicant：富士フイルム株式会社
パターン形成方法、該パターン形成方法に用いられる多重現像用ポジ型レジスト組成物、該パターン形成方法に用いられるネガ現像用現像液及び該パターン形成方法に用いられるネガ現像用リンス液
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2007-325915 Applicant：富士フイルム株式会社
パタ-ン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-001907 Applicant：株式会社東芝

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