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J-GLOBAL ID：200903023235614419

ネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法

Inventor：
椿 英明

About 椿 英明


Applicant, Patent owner：
富士フイルム株式会社

About 富士フイルム株式会社


Agent (2)： 高松 猛 ,  矢澤 清純
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007190971
Publication number (International publication number)：2009025723
Application date： Jul. 23, 2007
Publication date： Feb. 05, 2009
Summary：
【課題】ラインエッジラフネスが小さく、パターン倒れ性能が良好なネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)特定の脂環炭化水素構造から選ばれる、異なる部分構造を有する繰り返し単位を少なくとも2種類有し、酸の作用により極性が増大し、ポジ型現像液に対する溶解度が増大し、ネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び(C)溶剤を含有するネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
(A)下記一般式(pI)〜(pV)から選ばれる、異なる部分構造を有する繰り返し単位を少なくとも2種類有し、酸の作用により極性が増大し、ネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び(C)溶剤を含有することを特徴とするネガ型現像用レジスト組成物。
IPC (3)：
G03F 7/038 ,  G03F 7/32 ,  H01L 21/027
FI (3)：
G03F7/038 601 ,  G03F7/32 ,  H01L21/30 502R
F-Term (20)：
2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD07 ,  2H025BD43 ,  2H025BE00 ,  2H025CC03 ,  2H025FA15 ,  2H096AA25 ,  2H096AA27 ,  2H096BA06 ,  2H096BA20 ,  2H096EA05 ,  2H096FA01 ,  2H096GA03 ,  2H096GA08 ,  2H096GA17
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (7)
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