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J-GLOBAL ID：201103021103873984

防食性に優れた機能性被覆の形成法

Inventor： 賞雅 寛而 ,  波津久 達也 ,  関村 直人 ,  岡本 孝司 ,  阿部 弘亨 ,  三島 嘉一郎 ,  中村 秀夫 ,  柴本 泰照 ,  植松 進 ,  古谷 正裕 ,  小野 昇一 ,  師岡 慎一 ,  秋葉 美幸 ,  鹿野 文寿 ,  安永 龍哉 ,  藤沢 匡介 ,  千草 剛 ,  下条 純
Applicant, Patent owner： 国立大学法人東京海洋大学 ,  国立大学法人 東京大学 ,  独立行政法人 日本原子力研究開発機構 ,  独立行政法人海上技術安全研究所 ,  財団法人電力中央研究所 ,  株式会社東芝 ,  株式会社神戸製鋼所
Agent (4)： 植木 久一 ,  菅河 忠志 ,  二口 治 ,  伊藤 浩彰
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2005042377
Publication number (International publication number)：2006226898
Patent number：4604153
Application date： Feb. 18, 2005
Publication date： Aug. 31, 2006
Claim (excerpt)：

【請求項1】 放射線照射雰囲気に曝される金属構造物を構成する基材の一部または全部に、放射線照射により腐食電位低下による防食効果を示す機能性被覆をプラズマ照射によって形成するに当たり、溶射すべき方向に伸びるプラズマ軸線の上流側に原料粉末投入口を備え、該軸線の周囲に等間隔で複数の溶射ガンが配置され、且つ各溶射ガンから投射されるプラズマが1点に収斂する様に配置された多電極プラズマ収斂型溶射装置を使用し、平均粒径が5〜10μmのセラミック粉末を溶射することを特徴とする、防食性に優れた機能性被覆の形成法。

IPC (4)：

G21D 1/00 ( 200 6.01) ,  C23C 4/10 ( 200 6.01) ,  C23C 4/12 ( 200 6.01) ,  G21C 19/307 ( 200 6.01)

FI (4)：

G21D 1/00 X ,  C23C 4/10 ,  C23C 4/12 ,  G21C 19/30 L

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

• 防食用チタン酸化膜の作製方法および防食用チタン酸化膜
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-284416   Applicant：石川島播磨重工業株式会社
• 特開平2-236999
  
• 特開昭61-230300
  
• 特公昭51-007556
  
• プラズマジェットを発生しかつ偏向するための装置
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平9-542975   Applicant：アイペック・プリシジョン・インコーポレーテッド
• 防食用チタン酸化膜の作製方法および防食用チタン酸化膜
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-290889   Applicant：石川島播磨重工業株式会社
• チタン酸化膜の作製方法およびチタン酸化膜
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-231580   Applicant：石川島播磨重工業株式会社
• 原子炉構造材及びその防食方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-012056   Applicant：石川島播磨重工業株式会社