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J-GLOBAL ID:201103026832793097

X線発生用ターゲット、X線発生装置、及びX線発生用ターゲットの製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 長谷川 芳樹 ,  黒木 義樹 ,  石田 悟
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2010168460
Publication number (International publication number):2011077027
Application date: Jul. 27, 2010
Publication date: Apr. 14, 2011
Summary:
【課題】ターゲット部における放熱性の向上が図られたX線発生用ターゲットを提供すること。【解決手段】X線発生用ターゲットT1は、ダイヤモンドからなり、互いに対向する第1及び第2主面1a,1bを有する基板1と、ターゲット部10と、を備えている。基板1には、第1主面1a側から有底状の穴部3が形成されている。ターゲット部10は、穴部3の底面から第1主面1a側に向かって堆積された金属からなる。ターゲット部10の外側面全体は、穴部3の内側面と密着している。【選択図】図1
Claim (excerpt):
ダイヤモンドからなり、互いに対向する第1及び第2主面を有すると共に前記第1主面側から有底状の穴部が形成されている基板と、 前記穴部の底面から前記第1主面側に向かって堆積された金属からなり、その外側面全体が前記穴部の内側面と密着しているターゲット部と、を備えていることを特徴とするX線発生用ターゲット。
IPC (2):
H01J 35/08 ,  H01J 35/14
FI (3):
H01J35/08 C ,  H01J35/08 B ,  H01J35/14
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
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