Pat
J-GLOBAL ID：201103029284779632

欠陥検査装置およびその方法

Inventor：
酒井 薫

About 酒井 薫

, 
浦野 貴裕

About 浦野 貴裕


Applicant, Patent owner：
株式会社日立ハイテクノロジーズ

About 株式会社日立ハイテクノロジーズ


Agent (2)： 井上 学 ,  戸田 裕二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009194960
Publication number (International publication number)：2011047724
Application date： Aug. 26, 2009
Publication date： Mar. 10, 2011
Summary：
【課題】 多様な欠陥種の高感度検出と高感度化に伴い増加するノイズやNuisance欠陥の抑制が必要である。【解決手段】 被検査対象物を所定の光学条件で照射する照明光学系と、前記照明光学系により照射された前記被検査対象物からの散乱光を所定の検出条件で検出して画像データを取得する検出光学系と、異なる条件で前記検出光学系により取得された複数の画像データについてそれぞれ欠陥候補を検出する欠陥候補検出部と、前記複数の画像データについての欠陥候補を統合処理して欠陥判定を行う検査後処理部と、を備えた画像処理部と、を有する欠陥検査装置である。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
被検査対象物を所定の光学条件で照射する照明光学系と、 前記照明光学系により照射された前記被検査対象物からの散乱光を所定の検出条件で検出して画像データを取得する検出光学系と、 異なる条件で前記検出光学系により取得された複数の画像データについてそれぞれ欠陥候補を検出する欠陥候補検出部と、前記複数の画像データについての欠陥候補を統合処理して欠陥判定を行う検査後処理部と、を備えた画像処理部と、 を有する欠陥検査装置。
IPC (2)：
G01N 21/956 ,  H01L 21/66
FI (2)：
G01N21/956 A ,  H01L21/66 J
F-Term (18)：
2G051AA51 ,  2G051AB01 ,  2G051AB07 ,  2G051BA01 ,  2G051CA03 ,  2G051CB05 ,  2G051DA07 ,  2G051EA24 ,  2G051EB01 ,  2G051EC01 ,  2G051ED11 ,  4M106AA01 ,  4M106BA04 ,  4M106BA05 ,  4M106CA39 ,  4M106CA41 ,  4M106DB02 ,  4M106DB20
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM