マイクロ構造体の製造方法および放射線吸収格子

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：阿部琢磨 , 黒岩創吾
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010028177
Publication number (International publication number)：2011162854
Application date： Feb. 10, 2010
Publication date： Aug. 25, 2011
Summary：

【課題】点光源のX線源を用いても、X線吸収の効率を低下させることのない湾曲したマイクロ構造体の製造方法を提供する。【解決手段】表側に微細構造とメッキ層を有し、裏側に弯曲した面を有するモールドからなるマイクロ構造体の製造方法であって、異方性エッチングにて深さ方向にエッチングされて形成された微細構造を有し、前記微細構造の連続した隙間の底部に導電性が付与されたモールドを用意する工程と、前記微細構造の底部からメッキして前記微細構造の連続した隙間に第1のメッキ層を形成する工程と、前記第1のメッキ層の上に、応力を発生する第2のメッキ層を形成し、前記第2のメッキ層の応力によりモールドを湾曲させる工程とを少なくとも有するマイクロ構造体の製造方法。【選択図】図1B

Claim (excerpt)：

表側に微細構造とメッキ層を有し、裏側に弯曲した面を有するモールドからなるマイクロ構造体の製造方法であって、異方性エッチングにて深さ方向にエッチングされて形成された微細構造を有し、前記微細構造の連続した隙間の底部に導電性が付与されたモールドを用意する工程と、前記微細構造の底部からメッキして前記微細構造の連続した隙間に第1のメッキ層を形成する工程と、前記第1のメッキ層の上に、応力を発生する第2のメッキ層を形成し、前記第2のメッキ層の応力によりモールドを湾曲させる工程とを少なくとも有することを特徴とするマイクロ構造体の製造方法。

IPC (4)：

C25D 5/10 , C25D 7/00 , C25D 5/50 , B81C 99/00

FI (4)：

C25D5/10 , C25D7/00 Y , C25D5/50 , B81C5/00

F-Term (18)：

3C081AA17 , 3C081BA09 , 3C081BA72 , 3C081CA14 , 3C081CA30 , 3C081DA03 , 3C081EA00 , 4K024AA03 , 4K024AA11 , 4K024AB02 , 4K024AB08 , 4K024BA00 , 4K024CA01 , 4K024CA02 , 4K024CA06 , 4K024DB09 , 4K024DB10 , 4K024GA16

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

X線装置の焦点-検出器装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2007-020091 Applicant：シーメンスアクチエンゲゼルシヤフト
微細構造体の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2010-265093 Applicant：キヤノン株式会社
マイクロ構造体の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2010-037922 Applicant：キヤノン株式会社

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Cited by examiner (5)

X線装置の焦点-検出器装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2007-020091 Applicant：シーメンスアクチエンゲゼルシヤフト
微細構造体の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2010-265093 Applicant：キヤノン株式会社
マイクロ構造体の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2010-037922 Applicant：キヤノン株式会社

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