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J-GLOBAL ID：201103079229361332

ポジ型感放射線性組成物、層間絶縁膜及びその形成方法

Inventor：
一戸 大吾

About 一戸 大吾


Applicant, Patent owner：
JSR株式会社

About JSR株式会社


Agent (7)： 天野 一規 ,  藤本 勝誠 ,  藤井 康輔 ,  池田 義典 ,  小川 博生 ,  加藤 早苗 ,  奥谷 優
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010104321
Publication number (International publication number)：2011232648
Application date： Apr. 28, 2010
Publication date： Nov. 17, 2011
Summary：
【課題】一般的な要求特性である透明性、表面硬度、耐溶剤性、及び電圧保持率を満足する層間絶縁膜を形成可能であり、かつ放射線感度に優れ、十分な保存安定性を有するポジ型感放射線性組成物、その組成物から形成される層間絶縁膜、並びにその層間絶縁膜の形成方法の提供。【解決手段】[A]同一又は異なる重合体分子中にアセタール基を含む構造単位とエポキシ基含有構造単位とを有する重合体、及び[B]下記式(2)で表される酸発生剤を含有するポジ型感放射線性組成物。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
[A]同一又は異なる重合体分子中に下記式(1)で表される基を含む構造単位とエポキシ基含有構造単位とを有する重合体、及び [B]下記式(2)で表される酸発生剤 を含有するポジ型感放射線性組成物。
IPC (6)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/40 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C08F 220/26 ,  C07F 9/26
FI (6)：
G03F7/004 503A ,  G03F7/40 501 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C08F220/26 ,  C07F9/26
F-Term (55)：
2H096AA27 ,  2H096AA28 ,  2H096BA11 ,  2H096HA01 ,  2H125AE13P ,  2H125AF14P ,  2H125AF16P ,  2H125AF18P ,  2H125AF21P ,  2H125AF35P ,  2H125AF46P ,  2H125AF53P ,  2H125AH05 ,  2H125AH06 ,  2H125AH07 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ14Y ,  2H125AJ42Y ,  2H125AJ44Y ,  2H125AJ63X ,  2H125AJ63Y ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ64Y ,  2H125AM66P ,  2H125AM86P ,  2H125AN36P ,  2H125AN39P ,  2H125AN81P ,  2H125AN86P ,  2H125BA01P ,  2H125BA05P ,  2H125BA26P ,  2H125BA33P ,  2H125CA22 ,  2H125CA24 ,  2H125CB02 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  4H050AA01 ,  4H050AA03 ,  4H050AB81 ,  4J100AB03S ,  4J100AJ02S ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL10P ,  4J100BA03R ,  4J100BA06Q ,  4J100BC53Q ,  4J100BC54P ,  4J100CA03 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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