Pat
J-GLOBAL ID：200903089420109144

ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法

Inventor：
滝田 敏

About 滝田 敏


Applicant, Patent owner：
富士フイルム株式会社

About 富士フイルム株式会社


Agent (2)： 高松 猛 ,  矢澤 清純
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008146385
Publication number (International publication number)：2009098616
Application date： Jun. 04, 2008
Publication date： May. 07, 2009
Summary：
【課題】感度、残膜率、保存安定性に優れた、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法であって、硬化させることにより耐熱性、密着性、透過率などに優れる硬化膜が得られる、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法を提供することである。【解決手段】解離性基が解離することで、カルボキシル基を生じる特定のアクリル酸系構成単位とカルボキシル基と反応して共有結合を形成し得る官能基を有する構成単位を含有し、アルカリ不溶性若しくはアルカリ難溶性であり、且つ、酸解離性基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物、及び、それを用いた硬化膜形成方法。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
(A)酸解離性基を有する下記一般式(1)で表される構成単位とカルボキシル基と反応して共有結合を形成し得る官能基を有する構成単位を含有し、アルカリ不溶性若しくはアルカリ難溶性であり、且つ、当該酸解離性基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂、 (B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を少なくとも含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。
IPC (5)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/40 ,  C08F 220/26 ,  H01L 21/027
FI (6)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/40 501 ,  C08F220/26 ,  H01L21/30 502R
F-Term (40)：
2H025AA01 ,  2H025AA10 ,  2H025AA11 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE08 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CC06 ,  2H025CC20 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  2H025FA30 ,  2H096AA25 ,  2H096AA27 ,  2H096BA11 ,  2H096EA02 ,  2H096FA01 ,  2H096GA08 ,  2H096HA01 ,  2H096HA03 ,  2H096JA04 ,  4J100AL08P ,  4J100AL10Q ,  4J100BA02P ,  4J100BA03Q ,  4J100BC23P ,  4J100BC43P ,  4J100BC43Q ,  4J100BC53P ,  4J100BC54Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
Show all
Cited by examiner (7)
Show all
Article cited by the Patent：
Cited by examiner (1)
  • Photoacid Generators forMicrolithography, 2006

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM