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J-GLOBAL ID：201103080462773568

固体表面の平坦化方法及びその装置

Inventor： 佐藤 明伸 ,  鈴木 晃子 ,  ブーレル エマニュエル ,  松尾 二郎 ,  瀬木 利夫 ,  青木 学聡
Applicant, Patent owner： 日本航空電子工業株式会社
Agent (4)： 中尾 直樹 ,  中村 幸雄 ,  草野 卓 ,  稲垣 稔
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2005514263
Patent number：3994111
Application date： Sep. 29, 2004
Claim (excerpt)：

【請求項1】 ガスクラスターイオンビームを用い固体表面を平坦に加工する方法において、 前記ガスクラスターイオンビームの照射過程の少なくとも一部の期間において前記固体表面と前記ガスクラスターイオンビームがなす照射角度を30°未満にして前記ガスクラスターイオンビームを照射する過程を含むことを特徴とする固体表面の平坦化方法。

IPC (2)：

H01L 21/302 ( 200 6.01) ,  C23F 4/00 ( 200 6.01)

FI (2)：

H01L 21/302 201 B ,  C23F 4/00 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• ガスクラスターイオンビームによる固体表面の 平坦化方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-057587   Applicant：新技術事業団, 三洋電機株式会社
• ガスクラスターイオンビームによる 超精密研磨加工方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-262910   Applicant：新技術事業団, 安達新産業株式会社
• 半導体基板の平坦化方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-223902   Applicant：日本電信電話株式会社
• パターン形成方法、これを用いた磁気抵抗効果素子及び磁気ヘッドの製造方法、並びに、ヘッドサスペンションアセンブリ及び磁気ディスク装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-039400   Applicant：TDK株式会社
• 磁気抵抗素子とその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-185023   Applicant：松下電器産業株式会社