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J-GLOBAL ID：201103081772708894

薄膜型光吸収膜

Inventor： 布山 美慕 ,  井上 恭明
Applicant, Patent owner： ナルックス株式会社
Agent (1)： 伏見 直哉
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2010047068
Patent number：4568810
Application date： Mar. 03, 2010
Summary：

【要約】 本発明の一態様による薄膜型光吸収膜は、基板(101)上に形成された多層膜からなる薄膜型光吸収膜であって、該多層膜は、四酸化三鉄からなる酸化鉄層(103)と、誘電体からなる誘電体層(105)と、を含み、該酸化鉄層の厚さは、100ナノメータ以上で、該酸化鉄層及び該誘電体層が、反射防止層を形成している。 【選択図】図6

Claim (excerpt)：

【請求項1】 基板上に形成された多層膜からなる薄膜型光吸収膜であって、該多層膜は、四酸化三鉄からなる酸化鉄層と、誘電体からなる誘電体層と、を含み、該酸化鉄層の厚さは、100ナノメータ以上で、該酸化鉄層及び該誘電体層が、反射防止層を形成する薄膜型光吸収膜。

IPC (3)：

G02B 5/28 ( 200 6.01) ,  G02B 5/00 ( 200 6.01) ,  G02B 1/11 ( 200 6.01)

FI (3)：

G02B 5/28 ,  G02B 5/00 Z ,  G02B 1/10 A