特許

J-GLOBAL ID：201103081772708894

薄膜型光吸収膜

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発明者： 布山 美慕 ,  井上 恭明
出願人/特許権者： ナルックス株式会社
代理人 (1件)： 伏見 直哉
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-047068
特許番号：特許第4568810号
出願日： 2010年03月03日
要約：

【要約】 本発明の一態様による薄膜型光吸収膜は、基板(101)上に形成された多層膜からなる薄膜型光吸収膜であって、該多層膜は、四酸化三鉄からなる酸化鉄層(103)と、誘電体からなる誘電体層(105)と、を含み、該酸化鉄層の厚さは、100ナノメータ以上で、該酸化鉄層及び該誘電体層が、反射防止層を形成している。 【選択図】図6

請求項（抜粋）：

【請求項1】 基板上に形成された多層膜からなる薄膜型光吸収膜であって、該多層膜は、四酸化三鉄からなる酸化鉄層と、誘電体からなる誘電体層と、を含み、該酸化鉄層の厚さは、100ナノメータ以上で、該酸化鉄層及び該誘電体層が、反射防止層を形成する薄膜型光吸収膜。

IPC (3件)：

G02B 5/28 ( 200 6.01) ,  G02B 5/00 ( 200 6.01) ,  G02B 1/11 ( 200 6.01)

FI (3件)：

G02B 5/28 ,  G02B 5/00 Z ,  G02B 1/10 A