粒度分布測定装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：西村竜平 , 佐藤明子 , 齊藤真大
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010042315
Publication number (International publication number)：2011179876
Application date： Feb. 26, 2010
Publication date： Sep. 15, 2011
Summary：

【課題】個々の試料に対する最適な測定条件を定めるため、その測定条件の評価を容易にする。【解決手段】試料の粒度分布測定を行う装置本体と、オペレータからの入力を受け付けて装置本体の駆動制御を行うとともに、装置本体からの測定結果を受け付けて表示するインタフェース機器とを備えた粒度分布測定装置であり、インタフェース機器が、粒度分布測定を行うために設定すべき操作パラメータの値と、操作パラメータの各値に対応した装置本体の測定結果を用いて得られた評価パラメータの値との関係をグラフ表示する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

試料の粒度分布測定を行う装置本体と、オペレータからの入力を受け付けて前記装置本体の駆動制御を行うとともに、当該装置本体からの測定結果を受け付けて表示するインタフェース機器とを備えた粒度分布測定装置であって、前記インタフェース機器が、粒度分布測定を行うために設定すべき操作パラメータの値と、当該操作パラメータの各値に対応した、前記装置本体の測定結果を用いて得られた評価パラメータの値との関係をグラフ表示することを特徴とする粒度分布測定装置。

IPC (1)：

G01N 15/02

FI (1)：

G01N15/02 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

回折・散乱光の光強度分布データの比較方法、および粒度分布測定装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-296571 Applicant：株式会社島津製作所
粒子径分布測定装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-356758 Applicant：株式会社堀場製作所
特許第3633169号

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