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J-GLOBAL ID:201103089753486547

半導体素子、及び半導体素子製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (17): 蔵田 昌俊 ,  高倉 成男 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  福原 淑弘 ,  峰 隆司 ,  白根 俊郎 ,  村松 貞男 ,  野河 信久 ,  幸長 保次郎 ,  河野 直樹 ,  砂川 克 ,  井関 守三 ,  佐藤 立志 ,  岡田 貴志 ,  堀内 美保子 ,  竹内 将訓
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2011104945
Publication number (International publication number):2011238929
Application date: May. 10, 2011
Publication date: Nov. 24, 2011
Summary:
【課題】量子のドット、リング及びワイヤーのような量子構造を含む半導体素子及びそれらの製作方法を提供する。【解決手段】量子ドット211及び複数の層を具備する半導体素子であって、前記複数の層は、第1の層203と、ストレッサー層205と、パターン層207と、を具備し、前記ストレッサー層は前記第1の層の上に覆い被さり、前記パターン層は前記ストレッサー層の上に覆い被さり、前記ストレッサー層は、前記第1の層及び前記パターン層とは実質的に異なる格子定数を有していて、前記層に提供されるピット213を有し、前記量子ドットは前記ピットと並べられた前記パターン層上にある。【選択図】図2
Claim (excerpt):
量子構造及び複数の層を具備する半導体素子であって、前記複数の層は、第1の層と、ストレッサー層と、及び、パターン層と、を具備し、前記ストレッサー層は前記第1の層の上に覆い被さり、前記パターン層は前記ストレッサー層の上に覆い被さり、前記ストレッサー層は前記第1の層とは実質的に異なる格子定数を有して、前記素子は、少なくとも前記パターン層に提供されるピットをさらに具備し、前記量子構造は前記ピットで提供される半導体素子。
IPC (1):
H01S 5/343
FI (1):
H01S5/343
F-Term (7):
5F173AH03 ,  5F173AP05 ,  5F173AP09 ,  5F173AP33 ,  5F173AR01 ,  5F173AR99 ,  5F173AS10
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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