自己参照型光周波数コムを発生する方法とデバイス

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：青木篤 , 鶴田準一 , 下道晶久 , 森啓
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2011538791
Publication number (International publication number)：2012510645
Application date： Dec. 02, 2009
Publication date： May. 10, 2012
Summary：

【課題】本願発明は、モード結合レーザ(3)の短レーザパルスの列(2、2)が、関連周波数コムに含まれる個別ラインのキャリア・エンベロープ・オフセット周波数に関して補償される方法およびデバイス(1)に関連する。【解決手段】本願発明の狙いは、キャリア・エンベロープ・オフセット周波数を決定すること、及び、音響光学周波数シフタ(13)を動作させるためにその周波数を利用すること、である。そのシフタにおいて、時間的に等距離で短いレーザパルスの非補償列は、周波数コムの個別ラインが、キャリア・エンベロープ・オフセット周波数によってシフトされるように、第1次数において回析される。短レーザパルスの結果として生じる補償列は、周波数コム、短レーザパルスの列において個々の光パルスの繰り返し周波数の整数倍である個別ラインを有する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

短時間等間隔レーザパルスの補償列(17)を発生する方法であって、該補償列の周波数コムが、キャリア・エンベロープ・オフセット周波数(fCEO)が所定の値に調整される等距離の個別ラインを備え、該方法が、短時間等間隔レーザパルスの非補償列(2)を受信するステップと、短い等間隔レーザパルスの非補償列(2)の前記周波数コムにおいて個別ラインの前記キャリア・エンベロープ・オフセット周波数(fCEO)に対応する周波数を有するCEO信号(9)を決定するステップと、 CEO信号(9)から導出された制御信号(12)で音響光学周波数シフタ(13)を制御するステップと、前記音響光学周波数シフタ(13)上に短パルスの前記非補償列(2)を導くステップと、を、第1の回折次数において、前記制御信号の周波数(fs)によって関係する周波数コムの個別ラインが、シフトされる時間的等間隔短レーザパルスの補償列(17)が発生されるように含む、方法。

IPC (1)：

G02F 2/02

FI (1)：

G02F2/02

F-Term (6)：

2K002AB12 , 2K002BA12 , 2K002EA30 , 2K002EB12 , 2K002EB15 , 2K002HA10

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

光周波数測定装置および測定方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-215590 Applicant：日本電信電話株式会社
光パルス発生器
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-322302 Applicant：財団法人神奈川科学技術アカデミー, 郵政省通信総合研究所長
後処理された高非線形ファイバを使用する安定化光ファイバ連続スペクトル周波数コム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-129104 Applicant：フルカワエレクトリックノースアメリカインコーポレーテッド

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