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J-GLOBAL ID:201303054837980357

薄層を堆積させる方法、およびこのように得られた製品

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (6): 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  小林 良博 ,  出野 知 ,  小林 直樹
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2013005679
Publication number (International publication number):2013076170
Application date: Jan. 16, 2013
Publication date: Apr. 25, 2013
Summary:
【課題】良好な薄膜処理方法およびその製品の提供。【解決手段】本発明の主題の一つは、基材の第1の側上に堆積された少なくとも1層の薄い連続的な膜の処理のための方法であって、薄膜を連続に保ちながら、そしてこの薄膜を溶融するステップ無しで該薄膜の結晶化度を高めるように、この少なくとも1つの薄膜が少なくとも300°Cに昇温され、該第1の側とは反対側上の温度が150°C以下ように保ちたれることを特徴とする、方法。 発明の別の主題は、この方法によって得ることができる材料である。【選択図】なし
Claim (excerpt):
基材の第1の側上に堆積された少なくとも1つの薄い連続的な膜の処理のための方法であって、薄膜を連続的に保ちながら、そして該薄膜を溶融するステップなしで、該薄膜の結晶化度を高めるように、該少なくとも1つの薄膜上のそれぞれの点が少なくとも300°Cの温度まで昇温され、一方、第1の側とは反対側の該基材上のあらゆる点において、150°C以下の温度を保つことを特徴とする、方法。
IPC (1):
C23C 14/58
FI (1):
C23C14/58 C
F-Term (11):
4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA46 ,  4K029BA48 ,  4K029BB02 ,  4K029CA05 ,  4K029DC39 ,  4K029EA08 ,  4K029GA00 ,  4K029JA10 ,  4K029KA03
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (10)
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