Pat
J-GLOBAL ID:201003042724770356
薄層を堆積させる方法、およびこのように得られた製品
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (6):
青木 篤
, 石田 敬
, 古賀 哲次
, 小林 良博
, 出野 知
, 小林 直樹
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2009544438
Publication number (International publication number):2010514666
Application date: Jan. 04, 2008
Publication date: May. 06, 2010
Summary:
本発明の主題の一つは、基材の第1の側上に堆積された少なくとも1層の薄い連続的な膜の処理のための方法であって、薄膜を連続に保ちながら、そしてこの薄膜を溶融するステップ無しで該薄膜の結晶化度を高めるように、この少なくとも1つの薄膜が少なくとも300°Cに昇温され、該第1の側とは反対側上の温度が150°C以下ように保ちたれることを特徴とする、方法。 発明の別の主題は、この方法によって得ることができる材料である。
Claim (excerpt):
基材の第1の側上に堆積された少なくとも1つの薄い連続的な膜の処理のための方法であって、薄膜を連続的に保ちながら、そして該薄膜を溶融するステップなしで、該薄膜の結晶化度を高めるように、該少なくとも1つの薄膜上のそれぞれの点が少なくとも300°Cの温度まで昇温され、一方、第1の側とは反対側の該基材上のあらゆる点において、150°C以下の温度を保つことを特徴とする、方法。
IPC (9):
C03C 17/245
, C23C 14/58
, C03C 17/34
, H01L 31/04
, G02F 1/134
, H05B 33/10
, H01L 51/50
, H05B 33/28
, G09F 9/30
FI (10):
C03C17/245 A
, C23C14/58 A
, C03C17/34 Z
, H01L31/04 E
, H01L31/04 M
, G02F1/1343
, H05B33/10
, H05B33/14 A
, H05B33/28
, G09F9/30 310
F-Term (83):
2H092HA03
, 2H092KA19
, 2H092MA05
, 2H092MA08
, 2H092MA29
, 2H092MA30
, 2H092MA35
, 2H092NA27
, 2H092PA01
, 3K107AA01
, 3K107CC12
, 3K107CC45
, 3K107DD12
, 3K107DD22
, 3K107DD27
, 3K107DD44X
, 3K107DD44Y
, 3K107DD45X
, 3K107DD45Y
, 3K107DD46X
, 3K107DD46Y
, 3K107FF00
, 3K107FF04
, 3K107FF15
, 3K107FF17
, 3K107GG05
, 3K107GG26
, 3K107GG28
, 4G059AA08
, 4G059AB02
, 4G059AB09
, 4G059AB17
, 4G059AC06
, 4G059AC12
, 4G059DA01
, 4G059DA09
, 4G059DB01
, 4G059DB04
, 4G059EA01
, 4G059EA02
, 4G059EA03
, 4G059EA04
, 4G059EA07
, 4G059EA12
, 4G059EB01
, 4G059EB04
, 4G059EB06
, 4K029AA09
, 4K029AA24
, 4K029BA04
, 4K029BA07
, 4K029BA45
, 4K029BA47
, 4K029BA48
, 4K029BA49
, 4K029BA56
, 4K029BB02
, 4K029BC00
, 4K029BC07
, 4K029CA05
, 4K029DC39
, 4K029GA01
, 5C094AA21
, 5C094AA31
, 5C094BA21
, 5C094BA27
, 5C094BA43
, 5C094BA52
, 5C094DA13
, 5C094EB10
, 5C094GB10
, 5C094JA01
, 5C094JA08
, 5C094JA20
, 5F051AA03
, 5F051AA05
, 5F051AA09
, 5F051AA10
, 5F051BA11
, 5F051CB27
, 5F051FA02
, 5F051FA06
, 5F051GA03
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
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特開昭62-007844
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窓ガラス
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2001-530073
Applicant:グラヴルベル
-
特開平3-184216
-
電波透過性波長選択基板の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-157704
Applicant:セントラル硝子株式会社
-
低温下における半導体フィルムの加熱処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-142517
Applicant:ビアトロンテクノロジーズインク.
-
半導体素子からなる半導体回路を備えた半導体装置およびその作製方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-232400
Applicant:株式会社半導体エネルギー研究所
-
半導体製造装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-333723
Applicant:株式会社半導体エネルギー研究所
-
半導体装置の作製方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-349666
Applicant:株式会社半導体エネルギー研究所
-
薄層を堆積させる方法、およびこのように得られた製品
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2013-005679
Applicant:サン-ゴバングラスフランス
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