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J-GLOBAL ID：201303066134470886

表面波プラズマ処理装置

Inventor：
清水 修

About 清水 修

, 
栗本 孝志

About 栗本 孝志


Applicant, Patent owner：
株式会社アルバック

About 株式会社アルバック


Agent (2)： 恩田 博宣 ,  恩田 誠
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2011249817
Publication number (International publication number)：2013105949
Application date： Nov. 15, 2011
Publication date： May. 30, 2013
Summary：
【課題】プラズマ密度の均一性を高めることの可能な表面波プラズマ処理装置を提供する。【解決手段】表面波プラズマ処理装置は、導波管20の誘電窓16と互いに向い合う部位にスロットアンテナ21を備えるとともに、基台12と誘電窓16との間に、遮蔽部32と透過部33とを有する遮蔽部材30を備えている。そして、遮蔽部材30は、載置面の法線方向から見て、スロットアンテナ21のアンテナ部24の面積をS1、アンテナ部24と遮蔽部32との重なる部分の面積をS2、スロットアンテナ21の開口部23の面積をS3、開口部23と遮蔽部32との重なる部分の面積をS4とすると、S2/S1<S4/S3が満たされるように構成される。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
基板が載置される載置面を有した基台が収容される真空槽と、 前記真空槽に設けられた誘電窓上に配設される導波管とを備え、 前記導波管には、前記誘電窓と互いに向い合う部位にマイクロ波を放射するスロットアンテナが設けられ、該放射されたマイクロ波が前記誘電窓を介して前記真空槽内に伝播する表面波プラズマ処理装置であって、 前記基台と前記誘電窓との間に、遮蔽部と透過部とを有する遮蔽部材を備え、 前記載置面の法線方向から見て、 前記スロットアンテナのアンテナ部の面積をS1、 前記アンテナ部と前記遮蔽部との重なる部分の面積をS2、 前記スロットアンテナにおける1以上の開口からなる開口部の面積をS3、 前記開口部と前記遮蔽部との重なる部分の面積をS4とすると、 S2/S1<S4/S3が満たされる ことを特徴とする表面波プラズマ処理装置。
IPC (3)：
H01L 21/306 ,  H01L 21/027 ,  H05H 1/46
FI (3)：
H01L21/302 101D ,  H01L21/30 572A ,  H05H1/46 B
F-Term (10)：
5F004AA01 ,  5F004BB14 ,  5F004BB18 ,  5F004BB26 ,  5F004BD01 ,  5F004DA24 ,  5F004DA26 ,  5F004DB26 ,  5F004DB27 ,  5F146MA12
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
  • プラズマ処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-245204   Applicant：芝浦メカトロニクス株式会社, 株式会社東芝
  • 表面波励起プラズマの生成方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-156426   Applicant：株式会社ニッシン, 神港精機株式会社
  • プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-290231   Applicant：芝浦メカトロニクス株式会社
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