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J-GLOBAL ID:200903018240265739
プラズマ処理装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
鈴江 武彦 (外6名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997040557
Publication number (International publication number):1998241892
Application date: Feb. 25, 1997
Publication date: Sep. 11, 1998
Summary:
【要約】【課題】 チャンバ内部でプラズマの分布を均一にすることが可能なプラズマ処理装置を提供すること。【解決手段】 マイクロ波を発生させる発振器29と、上記マイクロ波を伝達させる導波管30と、上記導波管30を介してマイクロ波が導入され、内部でプラズマを発生させるとともに、上部に後述する誘電体窓32を取り付ける取付部34を有するチャンバ21と、上記チャンバ21の上記導波管30と対向する部分に設けられ上記マイクロ波をチャンバ21内部に導入するための開口部31が形成された金属製の天板31と、上記天板31の下方の取付部34に取り付けられたマイクロ波を伝搬して透過する誘電体窓32と、を具備したプラズマ処理装置20において、上記誘電体窓32はその幅をこの誘電体窓32を伝搬する表面波の半波長の長さの整数倍に設けられていることを特徴としている。
Claim (excerpt):
マイクロ波を発生させる発振器と、上記マイクロ波を伝達させる導波管と、上記導波管を介してマイクロ波が導入され、このマイクロ波によって内部でプラズマが発生されるチャンバと、上記チャンバの上記導波管と対向する部分に設けられた誘電体窓と、この誘電体窓と上記導波管との間に設けられ、上記マイクロ波を上記誘電体窓を通して上記チャンバ内部に導入するための開口部が形成された金属製の天板と、を具備し、上記誘電体窓は、幅寸法がこの誘電体窓を伝搬する上記マイクロ波の半波長の長さの整数倍に設定されていることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (7):
H05H 1/46
, C23C 16/50
, C23F 4/00
, H01L 21/205
, H01L 21/3065
, H01L 21/31
, H01P 1/08
FI (8):
H05H 1/46 B
, C23C 16/50
, C23F 4/00 D
, H01L 21/205
, H01L 21/31 C
, H01P 1/08
, H01L 21/302 B
, H01L 21/302 H
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (11)
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プラズマ処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-248767
Applicant:東京エレクトロン株式会社
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有磁場マイクロ波プラズマ処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-239942
Applicant:堀池靖浩, 株式会社神戸製鋼所
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マイクロ波プラズマ処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-312418
Applicant:日本電気株式会社
-
マイクロ波プラズマ装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-321424
Applicant:住友金属工業株式会社
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プラズマ処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-339519
Applicant:株式会社日立製作所, 株式会社日立エンジニアリングサービス
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マイクロ波プラズマ処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-123347
Applicant:株式会社日立製作所
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マイクロ波プラズマ処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-178821
Applicant:株式会社日立製作所
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プラズマ装置へのマイクロ波導入装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-270104
Applicant:株式会社神戸製鋼所
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マイクロ波プラズマCVD装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-005240
Applicant:キヤノン株式会社
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特開平3-020460
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特開昭56-093327
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