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J-GLOBAL ID:201303086767236603
X線光学システム
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
柳野 隆生
, 森岡 則夫
, 関口 久由
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2012094281
Publication number (International publication number):2013221874
Application date: Apr. 17, 2012
Publication date: Oct. 28, 2013
Summary:
【課題】 X線を高分解能で収差なく縮小又は拡大させて結像型X線顕微鏡やX線計測装置を構成するために、4つの全反射X線ミラーからなるAKBミラー光学系を構築するX線光学システムを提供する。【解決手段】 X線の光軸方向Lに沿って水平ステージ11と垂直ステージ12を配置し、水平ステージに水平楕円ミラーM1と水平双曲ミラーM3を微調節可能に設け、垂直ステージに垂直楕円ミラーM2と垂直双曲ミラーM4を微調節可能に設け、光軸方向における水平楕円ミラーと水平双曲ミラーの前後位置関係及び垂直楕円ミラーと垂直双曲ミラーの前後位置関係を同じに設定したミラーマニピュレータ10と、オフラインで水平楕円ミラーと水平双曲ミラーの水平姿勢及び垂直楕円ミラーと垂直双曲ミラーの垂直姿勢を理想姿勢になるように微調節するための基準を与えるアライメント監視手段20とを備えた。【選択図】 図5
Claim (excerpt):
エネルギーが2keV以上のX線を200nm以下の高い分解能で収差なく縮小又は拡大させるためのX線光学システムであって、
水平楕円ミラーと垂直楕円ミラー及び水平双曲ミラーと垂直双曲ミラーの4つの斜入射全反射X線ミラーを用い、X線の光軸方向に沿って水平ステージと垂直ステージを配置し、前記水平ステージに前記水平楕円ミラーと水平双曲ミラーを微調節可能に設けるとともに、前記垂直ステージに前記垂直楕円ミラーと垂直双曲ミラーを微調節可能に設け、光軸方向における前記水平楕円ミラーと水平双曲ミラーの前後位置関係及び前記垂直楕円ミラーと垂直双曲ミラーの前後位置関係を同じに設定したミラーマニピュレータと、
オフラインで前記水平楕円ミラーと水平双曲ミラーの水平姿勢及び前記垂直楕円ミラーと垂直双曲ミラーの垂直姿勢をそれぞれ誤差内で理想姿勢になるように微調節するための基準を与えるアライメント監視手段と、
を備えたことを特徴とするX線光学システム。
IPC (2):
FI (3):
G21K1/06 K
, G21K1/06 B
, G21K1/00 X
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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湾曲全反射ミラー装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-015968
Applicant:株式会社マック・サイエンス
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X線集光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2006-124378
Applicant:株式会社ジェイテック
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反射鏡固定方法及び反射鏡ホルダー
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-280685
Applicant:株式会社ニコン
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特開平1-299500
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X線集光系
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-310975
Applicant:日本電信電話株式会社
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表面分析装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-178400
Applicant:株式会社日立製作所
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真空光学系構造
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-102124
Applicant:科学技術振興事業団
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X線顕微鏡用光学装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-069613
Applicant:キヤノン株式会社
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