Art

J-GLOBAL ID：201402260664399575   Reference number：14A0414759

DC electrical conductivity study of amorphous carbon nitride films prepared by reactive RF magnetron sputtering

反応性RFスパッタリング法で作成した非晶質窒化カーボンのDC伝導度の研究

Author (6)： TAMURA Naoyuki (National Defense Acad., Kanagawa, JPN) ,  AONO Masami (National Defense Acad., Kanagawa, JPN) ,  HARATA Tomo (National Defense Acad., Kanagawa, JPN) ,  KISHIMURA Hiroaki (National Defense Acad., Kanagawa, JPN) ,  KITAZAWA Nobuaki (National Defense Acad., Kanagawa, JPN) ,  WATANABE Yoshihisa (National Defense Acad., Kanagawa, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics  (JJAP)
Volume： 53  Issue： 2S  Page： 02BC03.1-02BC03.4  Publication year： Feb. 2014 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *RF sputtering ,  *reactive sputtering ,  *carbon compound ,  *nitride ,  *electrical conductivity ,  carbon material ,  carbon nitride ,  dc conductivity ,  amorphous carbon
Semi thesaurus term： dc conductivity ,  amorphous carbon

JST classification (2)： Techniques and equipment of thin film deposition  (BK14020I) ,  Electric conduction in organic compounds  (BM03045F)

Reference (33)：

• M. Rusop, S. Adhikari, A. M. M. Omer, T. Soga, T. Jimbo, and M. Umeno, Diamond Relat. Mater. 15, 371 (2006).
• Y. Miyajima, S. J. Henley, and S. R. P. Silva, Thin Solid Films 519, 6374 (2011).
• S. Kumar, C. Godet, A. Goudovskikh, J. P. Kleider, G. Adamopoulos, and V. Chu, J. Non-Cryst. Solids 338-340, 349 (2004).
• X. W. Liu, C. H. Tseng, J. H. Lin, L. T. Chao, and H. C. Shih, Surf. Coatings Technol. 135, 184 (2001).
• M. A. Monclus, D. C. Cameron, R. Barklie, and M. Collins, Surf. Coatings Technol. 116-119, 54 (1999).

Terms in the title (8)： 反応性 ,  RFスパッタリング ,  非晶質 ,  窒化 ,  カーボン ,  DC ,  伝導度 ,  研究