Art

J-GLOBAL ID：201402292115008598   Reference number：14A0904275

Preparation of Nanopatterned Polyimide by Imprinting and Curing Phenylethynyl-terminated Imide Oligomer

インプリント及び架橋フェニルエチニル末端イミドオリゴマによるナノパターン化ポリイミドの調製

Author (7)： OGINO Masahiko (Hitachi, Ltd., Ibaraki, JPN) ,  OHHASHI Tatsuya (Hitachi, Ltd., Ibaraki, JPN) ,  YOSHIDA Hirofumi (Hitachi, Ltd., Ibaraki, JPN) ,  NAGAYAMA Daigo (Ibaraki Univ., Ibaraki, JPN) ,  KUBOTA Toshio (Ibaraki Univ., Ibaraki, JPN) ,  MORIKAWA Atsushi (Ibaraki Univ., Ibaraki, JPN) ,  ONO Katsumich (Ibaraki Univ., Ibaraki, JPN)
Material： Journal of Photopolymer Science and Technology  (フォトポリマー懇話会誌)
Volume： 27  Issue： 2  Page： 155-160  Publication year： 2014 
JST Material Number： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： crosslinking ,  imide ,  *oligomer ,  *pattern formation ,  *polyimide ,  BPDA polyimide ,  membrane and film ,  glass transition point ,  tensile strength ,  melting ,  metal mold ,  compression forming
Semi thesaurus term： nanoimprint ,  *nanopatterning formation ,  biphenyltetracarboxylic dianhydride polyimide

JST classification (1)： Polymerization in general  (CG04010H)

Substance index (3)： 4,4'-Oxybisaniline ,  4-(Phenylethynyl)phthalic anhydride ,  6-FDA

Reference (17)：

• S. Y. Chou, P. R. Krauss and P. J. Rentstrom, J. Vac. Sci. Technol. B 14 (1996), 4129.
• S. Y. Chou, P. R. Krauss and P. J. Rentstrom, Appl. Phys. Lett. 67 (1995), 3114.
• S. Y. Chou, P. R. Krauss, W. Zhang, L. Guo and L. Zhuang, J. Vac. Sci. Technol. B 15 (1997), 2897.
• M. Ogino, M. Hasegawa, K. Sakaue, S. Nagai and A. Miyauchi, Jpn. J. Appl. Phys 52 (2013) 035201 (4 pages) .
• K. M. Mittal and M. K. Ghosh, in polyimide: Functional and applications (1996) 629 (Marcel Dekker, New York).

Terms in the title (6)： 架橋 ,  イミド ,  オリゴマ ,  ナノパターン ,  ポリイミド ,  調製