移動体装置及びパターン形成装置、並びに移動体駆動方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：立石篤司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2013270866
Publication number (International publication number)：2014090198
Application date： Dec. 27, 2013
Publication date： May. 15, 2014
Summary：

【課題】基板ステージを小型化し、基板ステージの位置制御性(位置決め精度)の向上を図る。【解決手段】基板ステージ21と、基板ステージ21の自重を支持する自重キャンセル機構27とを別体で構成する。これにより、基板ステージと自重キャンセル機構とを一体的に構成する場合と比べて基板ステージ(基板ステージを含む構造体)を小型・軽量化することができる。また、X駆動機構97X,Y駆動機構97YによるX粗動ステージ23X、Y粗動ステージ23Yの移動により、基板ステージがXY平面内で駆動されるとともに、基板ステージの自重を支持する自重キャンセル機構も駆動される。これにより、基板ステージと自重キャンセル機構とを別体で構成しても支障なく、基板ステージを駆動できる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

移動可能な移動体と、前記移動体の自重を支持するとともに、移動可能な支持装置と、前記移動体を駆動するとともに、前記移動体の移動に応じて前記支持装置を駆動する駆動装置と、を備える移動体装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 , H01L 21/68

FI (2)：

H01L21/30 515G , H01L21/68 K

F-Term (17)：

5F131AA03 , 5F131AA32 , 5F131BA13 , 5F131CA02 , 5F131CA22 , 5F131EA02 , 5F131EA14 , 5F131EA15 , 5F131EA22 , 5F131EA23 , 5F131EA24 , 5F146BA04 , 5F146BA05 , 5F146CC01 , 5F146CC04 , 5F146CC18 , 5F146CC19

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (7)

ステージ装置及びその駆動方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-208550 Applicant：キヤノン株式会社
位置決め装置、露光装置およびデバイス製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-004069 Applicant：キヤノン株式会社
位置決め装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-048921 Applicant：キヤノン株式会社

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Cited by examiner (6)

ステージ装置及びその駆動方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-208550 Applicant：キヤノン株式会社
位置決め装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-048921 Applicant：キヤノン株式会社
移動ステージ機構およびこれを用いた露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-324965 Applicant：キヤノン株式会社

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