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Pat
J-GLOBAL ID:201403007668547656

二酸化炭素施用制御装置、二酸化炭素施用装置、二酸化炭素施用方法およびプログラム

Clips
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 特許業務法人朝日特許事務所 ,  渡邉 浩
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2013244893
Publication number (International publication number):2014128263
Application date: Nov. 27, 2013
Publication date: Jul. 10, 2014
Summary:
【課題】より低コストで、より効率的な二酸化炭素施用を行う。【解決手段】二酸化炭素施用制御装置は、二酸化炭素濃度の第1設定値を記憶する第1記憶手段と、前記第1設定値より低濃度であり、かつ400ppm以上である第2設定値を記憶する第2記憶手段と、開閉する窓を有する温室における当該窓の開閉状態を示す信号が当該窓が閉じていることを示している場合には前記第1設定値を濃度設定値とし、前記信号が前記窓が開いていることを示している場合には前記第2設定値を濃度設定値として、前記温室に二酸化炭素を供給する二酸化炭素供給手段を制御する制御手段とを有する。【選択図】図1
Claim (excerpt):
二酸化炭素濃度の第1設定値を記憶する第1記憶手段と、 前記第1設定値より低濃度であり、かつ400ppm以上である第2設定値を記憶する第2記憶手段と、 開閉する窓を有する温室における当該窓の開閉状態を示す信号が当該窓が閉じていることを示している場合には前記第1設定値を濃度設定値とし、前記信号が前記窓が開いていることを示している場合には前記第2設定値を濃度設定値として、前記温室に二酸化炭素を供給する二酸化炭素供給手段を制御する制御手段と を有する二酸化炭素施用制御装置。
IPC (4):
A01G 9/18 ,  A01G 9/24 ,  A01G 7/02 ,  A01G 7/00
FI (4):
A01G9/18 ,  A01G9/24 B ,  A01G7/02 ,  A01G7/00 601Z
F-Term (9):
2B022AA01 ,  2B022DA11 ,  2B022DA15 ,  2B022DA17 ,  2B029JA02 ,  2B029NA00 ,  2B029NB01 ,  2B029NB04 ,  2B029NB05
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

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