低電圧プラズマ発生用電極

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：特許業務法人太田特許事務所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2013101254
Publication number (International publication number)：2013258137
Application date： May. 13, 2013
Publication date： Dec. 26, 2013
Summary：

【課題】可撓性を有する電極構造とし、プラズマ活性種被処理物との接触の効率を向上させ、これによって被処理物の処理効率を向上させるような構造のプラズマ発生用電極を提供する。【解決手段】低電圧でプラズマを発生させるための電極10であって、可撓性を有する基板11と、基板の一方の面に設けられている第1電極12と、この基板上の表面と同じ面又は反対面に積層された第2電極13と、を備え、第1電極が露出しないようにその上に表保護層14を覆設し、第1電極から基板に沿ってプラズマを発生させるようにした。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

低電圧でプラズマを発生させるための電極であって、可撓性を有する基板と、前記基板の一方の面に設けられている第1電極と、この基板上の表面と同じ面又は反対面に積層された第2電極と、を備え、前記第1電極が露出しないようにその上に表保護層を覆設し、第1電極から基板に沿ってプラズマを発生させるようにしたことを特徴とする低電圧プラズマ発生用電極。

IPC (1)：

H05H 1/24

FI (1)：

H05H1/24

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

沿面放電を用いた表面処理装置及びその方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-353804 Applicant：セイコーエプソン株式会社
プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-121691 Applicant：松下電工株式会社
プラズマ表面処理方法及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-282628 Applicant：松下電器産業株式会社

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