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J-GLOBAL ID：201502219016916180   Reference number：15A1401127

Structural, Electrical and Optical Properties of ZnO:Ga Films Grown by Reactive Plasma Deposition with a DC Arc Discharge

反応性プラズマ蒸着法で作製したGa添加ZnO薄膜の構造,電気及び光学特性

Author (6)： TERASAKO TOMOAKI (愛媛大 大学院理工学研究科) ,  NOMOTO JUN'ICHI (高知工科大 総合研) ,  MAKINO HISAO (高知工科大 総合研) ,  YAGI MASAKAZU (香川高専) ,  SHIRAKATA SHO (愛媛大 大学院理工学研究科) ,  YAMAMOTO TETSUYA (高知工科大 総合研)
Material： 電子情報通信学会技術研究報告  (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
Volume： 115  Issue： 250(CPM2015 76-82)  Page： 1-4  Publication year： Oct. 07, 2015 
JST Material Number： S0532B  ISSN： 0913-5685  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： plasma CVD ,  *zinc oxide ,  compound semiconductor ,  semiconductor material ,  *semiconductor thin film ,  thin film growth ,  carrier density ,  compressive stress ,  optical gap ,  interaction ,  *photoluminescence ,  emission spectrum ,  lattice vibration ,  Gallium ,  doping ,  reactive plasma deposition
Semi thesaurus term： X線回折パターン ,  electron-electron interaction ,  電子-不純物相互作用

JST classification (1)： Semiconductor thin films  (BK14040E)

Reference (17)：

• T. Minami, ”New n-type transparent conducting oxides”, MRS Bull., Vol.25, No.8, pp.38-44, Aug. 2000.
• T. Minami, H. Sato, H. Nanto, S. Tanaka, ”Group III impurity doped zinc oxide thin films prepared by RF magnetron sputtering”, Jpn. J. Appl. Phys., Vol.24, Part 2, No.10, pp.781-784, 1985.
• T. Yamamoto, T. Sakemi, K. Awai, S. Shirakata, ”Dependence of carrier concentrations on oxygen pressure for Ga-doped ZnO prepared by ion plating method”, Thin Solid Films, Vol.451-452, pp.439-442, Mar. 2004.
• T. Yamada, A. Miyake, S. Kishimoto, H. Makino, N. Yamamoto, T. Yamada, ”Low resistivity Ga-doped ZnO thin films of less than 100 nm thickness prepared by ion plating with direct current arc discharge”, Appl. Phys. Lett. Vol.91, No.5, art. no.051915, Aug. 2007.
• K. Seeger, Semiconductor Physics 3rd ed., p309, Springer-Verlag, Berlin, 1985.

Terms in the title (5)： 反応性プラズマ蒸着 ,  作製 ,  Ga ,  ZnO薄膜 ,  光学特性