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J-GLOBAL ID：201503027437513277

窒化アルミニウム膜の成膜方法、弾性波デバイスの製造方法、及び窒化アルミニウム膜の製造装置

Inventor：
横山 剛

About 横山 剛


Applicant, Patent owner：
太陽誘電株式会社

About 太陽誘電株式会社


Agent (1)： 片山 修平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2013188581
Publication number (International publication number)：2015054986
Application date： Sep. 11, 2013
Publication date： Mar. 23, 2015
Summary：
【課題】アルミニウム及び窒素の他に少なくとも2つの元素を含む窒化アルミニウム膜を、組成を安定させて成膜すること。【解決手段】本発明は、窒素ガスを含む雰囲気下で、アルミニウムの他に少なくとも2つの元素を含むターゲット22を用いてスパッタリングを行う窒化アルミニウム膜の成膜方法である。本発明によれば、アルミニウム及び窒素の他に少なくとも2つの元素を含む窒化アルミニウム膜を、1つのターゲットによって成膜することができるため、組成を安定させて成膜することができる。【選択図】図2
Claim (excerpt)：
窒素ガスを含む雰囲気下で、アルミニウムの他に少なくとも2つの元素を含むターゲットを用いてスパッタリングを行うことを特徴とする窒化アルミニウム膜の成膜方法。
IPC (11)：
C23C 14/06 ,  H03H 3/08 ,  H03H 9/25 ,  H03H 9/17 ,  H03H 3/02 ,  H03H 9/64 ,  H03H 9/54 ,  C23C 14/34 ,  C01B 21/072 ,  C01G 27/00 ,  C01G 25/00
FI (11)：
C23C14/06 A ,  H03H3/08 ,  H03H9/25 C ,  H03H9/17 F ,  H03H3/02 A ,  H03H9/64 Z ,  H03H9/54 Z ,  C23C14/34 A ,  C01B21/072 F ,  C01G27/00 ,  C01G25/00
F-Term (28)：
4G048AA01 ,  4G048AB01 ,  4G048AC01 ,  4G048AD02 ,  4G048AE05 ,  4K029AA04 ,  4K029AA06 ,  4K029AA07 ,  4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA58 ,  4K029BD01 ,  4K029CA06 ,  4K029DC04 ,  5J097BB15 ,  5J097EE10 ,  5J097FF02 ,  5J097GG07 ,  5J097HA03 ,  5J097KK09 ,  5J097KK10 ,  5J108BB08 ,  5J108CC11 ,  5J108EE03 ,  5J108EE04 ,  5J108EE07 ,  5J108FF03 ,  5J108FF05
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (6)
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Cited by examiner (6)
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Article cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (1)

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