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J-GLOBAL ID：201503087544750098

処理装置および活性種の生成方法

Inventor：
長谷部 一秀

About 長谷部 一秀

, 
清水 亮

About 清水 亮


Applicant, Patent owner：
東京エレクトロン株式会社

About 東京エレクトロン株式会社


Agent (1)： 高山 宏志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2013261157
Publication number (International publication number)：2015119025
Application date： Dec. 18, 2013
Publication date： Jun. 25, 2015
Summary：
【課題】高濃度の活性種を生成することが可能であり、生成された高濃度の活性種を、失活を抑制しつつ処理室へ送ることが可能な処理装置を提供すること。【解決手段】活性種源を含む第1のガスから無声放電により第1の活性種を生成する第1の生成室121を有した第1の活性種生成ユニット12と、第1の活性種生成ユニット12の下流に設けられ、第1の生成室121から第1の活性種が供給されるとともに、活性種源を含む第2のガスから誘導結合プラズマ、容量結合プラズマ、およびマイクロ波プラズマの少なくとも1つにより第2の活性種を生成する第2の生成室131を有した第2の活性種生成ユニット13と、第2の活性種生成ユニット13の下流に設けられ、被処理体Wに対して、第2の生成室131から供給された第1、第2の活性種を用いて処理を施す処理室4とを具備する。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
活性種源を含む第1のガスから無声放電により第1の活性種を生成する第1の生成室を有した第1の活性種生成ユニットと、 前記第1の活性種生成ユニットの下流に設けられ、前記第1の生成室から前記第1の活性種が供給されるとともに、活性種源を含む第2のガスから誘導結合プラズマ、容量結合プラズマ、およびマイクロ波プラズマの少なくとも1つにより第2の活性種を生成する第2の生成室を有した第2の活性種生成ユニットと、 前記第2の活性種生成ユニットの下流に設けられ、被処理体に対して、前記第2の生成室から供給された前記第1、第2の活性種を用いて処理を施す処理室と を具備することを特徴とする処理装置。
IPC (3)：
H01L 21/31 ,  H01L 21/318 ,  H05H 1/46
FI (5)：
H01L21/31 A ,  H01L21/318 A ,  H05H1/46 M ,  H05H1/46 L ,  H05H1/46 B
F-Term (20)：
5F045AA20 ,  5F045AB33 ,  5F045AB34 ,  5F045BB17 ,  5F045EH11 ,  5F045EH12 ,  5F045EH13 ,  5F045EH18 ,  5F045EH19 ,  5F058BA20 ,  5F058BC07 ,  5F058BC08 ,  5F058BC09 ,  5F058BC10 ,  5F058BC11 ,  5F058BC12 ,  5F058BF74 ,  5F058BG01 ,  5F058BG02 ,  5F058BJ01
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (4)
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