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J-GLOBAL ID：201602229321906298   Reference number：16A0842063

Comparison study of V-doped ZnO thin films on polycarbonate and quartz substrates deposited by RF magnetron sputtering

RFマグネトロンスパッタリングで堆積したポリカーボネートと石英基板上のVドープZnO薄膜の比較研究

Author (4)： Suzuki Tomoya (Graduate School of Engineering, Tohoku University, Sendai 980-8579, Miyagi, Japan) ,  Chiba Hiroshi (Graduate School of Engineering, Tohoku University, Sendai 980-8579, Miyagi, Japan) ,  Kawashima Tomoyuki (Graduate School of Engineering, Tohoku University, Sendai 980-8579, Miyagi, Japan) ,  Washio Katsuyoshi (Graduate School of Engineering, Tohoku University, Sendai 980-8579, Miyagi, Japan)
Material： Thin Solid Films
Volume： 605  Page： 53-56  Publication year： Apr. 30, 2016 
JST Material Number： B0899A  ISSN： 0040-6090  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *zinc oxide ,  compound semiconductor ,  semiconductor thin film ,  *sputtered deposition ,  magnetron sputtering ,  *substrate (plate) ,  *polycarbonate ,  *Quartz ,  *doping ,  Vanadium ,  *electrical resistivity ,  *optical transmission ,  crystallinity ,  parameter ,  substrate temperature
Semi thesaurus term： RF magnetron sputtering

Author keywords (5)： Transparent conductive oxide ,  ZnO ,  Vanadium ,  RF sputtering ,  Polymer substrate

JST classification (3)： Oxide thin films  (BK14050P) ,  Electric conduction in crystalline semiconductors  (BM03043X) ,  Optical properties of condensed matter in general  (BM08010A)

Terms in the title (7)： RFマグネトロンスパッタリング ,  堆積 ,  ポリカーボネート ,  石英基板 ,  ドープ ,  ZnO薄膜 ,  研究