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J-GLOBAL ID：201603000658576640

処理装置および処理方法

Inventor：
平林 英明

About 平林 英明

, 
長嶋 裕次

About 長嶋 裕次


Applicant, Patent owner：
株式会社東芝

About 株式会社東芝


Agent (1)： 日向寺 雅彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2014224480
Publication number (International publication number)：2016092189
Application date： Nov. 04, 2014
Publication date： May. 23, 2016
Summary：
【課題】バッファードフッ酸を再利用する場合であっても処理レートの変動を抑制することができる処理装置および処理方法を提供することである。【解決手段】実施形態に係る処理装置は、バッファードフッ酸を収納する収納部と、前記バッファードフッ酸を用いて処理物の処理を行う処理部と、前記収納部に収納された前記バッファードフッ酸を前記処理部に供給する供給部と、前記処理部において使用された前記バッファードフッ酸を回収して前記収納部に供給する回収部と、前記バッファードフッ酸の蒸発量を演算する演算部と、アンモニアと、水と、を含み、前記演算されたバッファードフッ酸の蒸発量と同じ量の補充液を前記バッファードフッ酸に供給する補充液供給部と、を備えている。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
バッファードフッ酸を収納する収納部と、 前記バッファードフッ酸を用いて処理物の処理を行う処理部と、 前記収納部に収納された前記バッファードフッ酸を前記処理部に供給する供給部と、 前記処理部において使用された前記バッファードフッ酸を回収して前記収納部に供給する回収部と、 前記バッファードフッ酸の蒸発量を演算する演算部と、 アンモニアと、水と、を含み、前記演算されたバッファードフッ酸の蒸発量と同じ量の補充液を前記バッファードフッ酸に供給する補充液供給部と、 を備えた処理装置。
IPC (2)：
H01L 21/306 ,  H01L 21/304
FI (4)：
H01L21/306 J ,  H01L21/304 647Z ,  H01L21/304 648G ,  H01L21/304 648K
F-Term (19)：
5F043EE02 ,  5F043EE23 ,  5F043EE33 ,  5F157AC01 ,  5F157BC03 ,  5F157BC07 ,  5F157BC13 ,  5F157BC53 ,  5F157BE12 ,  5F157BE33 ,  5F157BE34 ,  5F157BE46 ,  5F157CD34 ,  5F157CE37 ,  5F157CE86 ,  5F157DB03 ,  5F157DB18 ,  5F157DB41 ,  5F157DC84
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (7)
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Cited by examiner (7)
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