エジェクタ

Inventor： , , , , , , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (3)：高田守 , 高橋英樹 , 小泉康男
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2012166433
Publication number (International publication number)：2014024012
Patent number：5871740
Application date： Jul. 27, 2012
Publication date： Feb. 06, 2014
Claim (excerpt)：

【請求項1】主流体が流入する流入口と、前記流入口の下流側に設けられ、前記主流体の流路断面積を縮小する縮径部と、前記縮径部に前記主流体を旋回流として流入させる旋回流発生手段と、前記縮径部を通過した前記主流体の旋回流によって生じる負圧により吸引される吸引流体が通る1または2個の吸引口と、前記主流体と前記吸引流体との混合流体が流出する流出口と、を備え、前記1または2個の吸引口が前記主流体の流路の内壁に開口を形成する位置において、前記主流体の流路の内周に沿って圧力が変化する内周圧力分布が形成され、前記開口は、前記内周圧力分布のうちで圧力が最低となる最低圧力部に対向する位置にあり、前記内周圧力分布は、2箇所の前記最低圧力部と、2箇所の最高圧力部とを有し、前記主流体の進行方向に垂直な進行方向垂直断面における楕円状の等圧線の長軸と交わる位置が前記最低圧力部になり、前記楕円状の等圧線の短軸と交わる位置が前記最高圧力部になり、前記1または2個の吸引口の前記開口は、前記最高圧力部に接しない位置にあり、前記1または2個の吸引口以外の吸引口を備えないエジェクタ。

IPC (7)：

B01F 5/04 ( 200 6.01) , B01F 3/04 ( 200 6.01) , B01F 3/08 ( 200 6.01) , B01F 3/12 ( 200 6.01) , B01F 3/06 ( 200 6.01) , B01F 3/02 ( 200 6.01) , B01F 5/00 ( 200 6.01)

FI (7)：

B01F 5/04 , B01F 3/04 F , B01F 3/08 Z , B01F 3/12 , B01F 3/06 , B01F 3/02 , B01F 5/00 F

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

特表昭57-500723
流体混合装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-334558 Applicant：株式会社日立製作所, バブコック日立株式会社, 株式会社日立ハイテクノロジーズ
ベンチュリ管を用いた流体の混合方法、ベンチュリ型混合装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2009-174408 Applicant：JFEエンジニアリング株式会社

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Cited by examiner (9)

特表昭57-500723
流体混合装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-334558 Applicant：株式会社日立製作所, バブコック日立株式会社, 株式会社日立ハイテクノロジーズ
微細気泡発生システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-035409 Applicant：シャープ株式会社

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