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J-GLOBAL ID：201603003964909628

多孔性シリコン系粒子、この製造方法、及びこれを含む負極活物質

Inventor： ヨー、ジュン ウー ,  リー、ミ リム ,  リー、ヨン ジュ ,  キム、エウン キュン ,  リー、ハン ホ ,  ヨーン、ジ ヒュン ,  バン、ビョウン マン ,  リー、チャン ラエ ,  ジェオン、イル キョ ,  リー、ミ キョン
Applicant, Patent owner： エルジー・ケム・リミテッド ,  エスジェイ マテリアルズ カンパニー リミテッド
Agent (1)： 龍華国際特許業務法人
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2015550344
Publication number (International publication number)：2016508114
Application date： Aug. 29, 2014
Publication date： Mar. 17, 2016
Summary：

本発明は、SiまたはSiOx(0<x<2)粒子を含み、前記粒子は複数の非線形気孔を含み、前記非線形気孔は粒子表面で開気孔(open pores)に形成されている多孔性シリコン系粒子及びこの製造方法を提供する。本発明の一実施形態による多孔性シリコン系粒子は、SiまたはSiOx(0<x<2)粒子に複数の非線形気孔を形成させることにより、負極活物質スラリー内の分散をさらに容易にすることができ、電解液との副反応を最少化することができ、充放電時の体積膨張を減らすことができる。また、本発明の一実施形態によれば、前記多孔性シリコン系粒子を金属触媒の種類、この濃度及びエッチング時間などを調節することにより形成される気孔の模様、形態及び大きさを制御することができる。

Claim (excerpt)：

SiまたはSiOx(0<x<2)粒子を含み、 前記粒子は、複数の非線形気孔を含み、 前記複数の非線形気孔は、粒子表面で開気孔(open pores)に形成されている多孔性シリコン系粒子。

IPC (7)：

C01B 33/02 ,  H01M 4/38 ,  H01M 4/48 ,  H01M 4/587 ,  H01M 4/36 ,  C01B 33/113 ,  C01B 33/021

FI (8)：

C01B33/02 Z ,  H01M4/38 Z ,  H01M4/48 ,  H01M4/587 ,  H01M4/36 E ,  H01M4/36 C ,  C01B33/113 A ,  C01B33/021

F-Term (69)：

4G072AA01 ,  4G072AA24 ,  4G072BB05 ,  4G072BB15 ,  4G072DD03 ,  4G072DD04 ,  4G072GG02 ,  4G072GG03 ,  4G072HH01 ,  4G072JJ09 ,  4G072JJ13 ,  4G072JJ18 ,  4G072JJ34 ,  4G072JJ47 ,  4G072KK01 ,  4G072KK06 ,  4G072LL07 ,  4G072MM02 ,  4G072MM03 ,  4G072MM22 ,  4G072MM23 ,  4G072MM31 ,  4G072MM35 ,  4G072QQ06 ,  4G072RR03 ,  4G072RR04 ,  4G072RR12 ,  4G072RR15 ,  4G072SS01 ,  4G072SS04 ,  4G072TT01 ,  4G072TT02 ,  4G072TT04 ,  4G072TT06 ,  4G072TT08 ,  4G072UU30 ,  5H050AA07 ,  5H050AA19 ,  5H050BA16 ,  5H050BA17 ,  5H050CA07 ,  5H050CA08 ,  5H050CA09 ,  5H050CA19 ,  5H050CB02 ,  5H050CB07 ,  5H050CB08 ,  5H050CB09 ,  5H050CB11 ,  5H050CB29 ,  5H050EA10 ,  5H050EA24 ,  5H050FA13 ,  5H050FA15 ,  5H050FA17 ,  5H050FA18 ,  5H050GA02 ,  5H050GA10 ,  5H050GA12 ,  5H050HA01 ,  5H050HA02 ,  5H050HA04 ,  5H050HA05 ,  5H050HA06 ,  5H050HA07 ,  5H050HA09 ,  5H050HA10 ,  5H050HA14 ,  5H050HA20

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• 多孔質シリコン複合体粒子及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2011-195751   Applicant：古河電気工業株式会社
• シリコン又はシリコン系材料からなる構造化粒子の製造方法及びそのリチウム二次電池での使用
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2013-503170   Applicant：ネグゼオン・リミテッド
• 多孔質シリコン粒子及びその製造方法、並びにリチウムイオン二次電池用負極及びリチウムイオン二次電池
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2011-202789   Applicant：古河電気工業株式会社
• Si/C複合物、これを含むアノード活物質及びリチウム電池
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2008-190286   Applicant：三星エスディアイ株式会社
• 多孔質シリコン層の加工方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-239140   Applicant：富士通株式会社
• 多孔質シリコン
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2012-543911   Applicant：サイメデイカリミテツド