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J-GLOBAL ID：201603010166415663

温度応答性細胞塊作製方法

Inventor：
丸山 厚

About 丸山 厚

, 
嶋田 直彦

About 嶋田 直彦


Applicant, Patent owner：
国立大学法人東京工業大学

About 国立大学法人東京工業大学


Agent (7)： 青木 篤 ,  石田 敬 ,  福本 積 ,  古賀 哲次 ,  渡辺 陽一 ,  中島 勝 ,  武居 良太郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2014228156
Publication number (International publication number)：2016086782
Application date： Nov. 10, 2014
Publication date： May. 23, 2016
Summary：
【課題】再生医療等の細胞培養で細胞塊の作製方法の提供。【解決手段】細胞を細胞培養プレートに播種前又は播種後に、式で示される高温融解型高分子を添加し、培養温度を変化させる細胞塊の作製方法。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
細胞塊を作製する方法であって、下記: (a)下記式(I):
IPC (1)：
C12N 5/07
FI (1)：
C12N5/00 202
F-Term (7)：
4B065AA90X ,  4B065AA93X ,  4B065BD26 ,  4B065BD28 ,  4B065BD29 ,  4B065BD32 ,  4B065CA44
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)
  • 複合殺鼠剤
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-274382   Applicant：ナトロセルテクノロジーズリミテッド
  • 細胞培養材料
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-028233   Applicant：クラレメディカル株式会社
  • 細胞培養担体と、細胞培養方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-172178   Applicant：新技術事業団
Article cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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