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J-GLOBAL ID:201603016086712410

正極の作製方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2016152841
Publication number (International publication number):2016192414
Application date: Aug. 03, 2016
Publication date: Nov. 10, 2016
Summary:
【課題】平面に対して垂直な方向において、イオンの移動が可能なグラフェンを提供する。【解決手段】炭素で構成される六員環と、炭素、または炭素及び酸素で構成される七員環以上の多員環と、該六員環または七員環以上の多員環を構成する炭素に結合する酸素とを有する複数のグラフェンが層状に重なり、複数のグラフェンの層間距離が0.34nmより大であり0.5nm以下、好ましくは0.38nm以上0.42nm以下である多層グラフェンである。【選択図】図1
Claim (excerpt):
正極活物質と、酸化グラフェンとを含むスラリーを形成し、 前記スラリーを正極集電体上に塗布し、 還元雰囲気で加熱処理を行う正極の作製方法であって、 前記加熱処理により還元された酸化グラフェンの酸素は、2atomic%以上11atomic%以下となることを特徴とする正極の作製方法。
IPC (5):
H01M 4/139 ,  H01M 4/04 ,  H01M 4/62 ,  H01M 4/02 ,  H01M 4/13
FI (5):
H01M4/139 ,  H01M4/04 Z ,  H01M4/62 Z ,  H01M4/02 Z ,  H01M4/13
F-Term (22):
5E078BA52 ,  5H050AA07 ,  5H050AA08 ,  5H050BA17 ,  5H050CA01 ,  5H050CA02 ,  5H050CA05 ,  5H050CA07 ,  5H050CA08 ,  5H050CA09 ,  5H050CB01 ,  5H050CB02 ,  5H050CB08 ,  5H050CB11 ,  5H050CB12 ,  5H050DA10 ,  5H050EA08 ,  5H050FA02 ,  5H050FA05 ,  5H050GA15 ,  5H050HA01 ,  5H050HA14
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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