Pat
J-GLOBAL ID:201703003511882211
ガスセンサ
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (4):
青木 宏義
, 天田 昌行
, 岡田 喜雅
, 三輪 正義
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2015138394
Publication number (International publication number):2017020883
Application date: Jul. 10, 2015
Publication date: Jan. 26, 2017
Summary:
【課題】微量な測定対象ガスを高精度に検出可能なガスセンサを提供する。【解決手段】ガスセンサ1は、ヒータ層4と、ヒータ層4にて加熱され、測定対象ガスが検出されるガス検出部6と、を有し、ガス検出部6は、ガス感知層8と、ガス感知層8の表面を覆う拡散層9と、拡散層9の表面を覆う吸着層10と、を有し、吸着層10は拡散層9よりも測定対象ガスに対する吸着性に優れ、拡散層9は吸着層10よりも測定対象ガスに対する拡散性に優る。【選択図】図1
Claim (excerpt):
ヒータ層と、前記ヒータ層にて加熱され、測定対象ガスが検出されるガス検出部と、を有し、
前記ガス検出部は、ガス感知層と、前記ガス感知層の表面を覆う拡散層と、前記拡散層の表面を覆う吸着層と、を有し、前記吸着層は、前記拡散層よりも前記測定対象ガスに対する吸着性に優れ、前記拡散層は、前記吸着層よりも前記測定対象ガスに対する拡散性に優れることを特徴とするガスセンサ。
IPC (1):
FI (1):
F-Term (12):
2G046AA10
, 2G046AA18
, 2G046AA24
, 2G046AA25
, 2G046AA26
, 2G046BA01
, 2G046BB02
, 2G046BD03
, 2G046BD04
, 2G046BD06
, 2G046FB02
, 2G046FE39
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (7)
-
薄膜ガスセンサ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2006-312840
Applicant:富士電機機器制御株式会社
-
還元又は酸化ガス用のガスセンサ
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平8-503637
Applicant:フォルシュングスツェントルムカールスルーエゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
-
ガス検出法およびガス検出器
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2002-591813
Applicant:ヴェーエムアーエアセンスアナリューゼンテヒニクゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
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Cited by examiner (7)
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薄膜ガスセンサ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2006-312840
Applicant:富士電機機器制御株式会社
-
還元又は酸化ガス用のガスセンサ
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平8-503637
Applicant:フォルシュングスツェントルムカールスルーエゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
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ガス検出法およびガス検出器
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2002-591813
Applicant:ヴェーエムアーエアセンスアナリューゼンテヒニクゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
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Article cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
Cited by examiner (1)
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