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J-GLOBAL ID：201703003617085612

多孔性高分子フィルムの製造方法および多孔性高分子フィルム

Inventor： 古山 了 ,  森山 順一 ,  長井 陽三 ,  百合 庸介 ,  石堀 郁夫 ,  湯山 貴裕 ,  石坂 知久 ,  奥村 進 ,  前川 康成 ,  越川 博 ,  八巻 徹也 ,  浅野 雅春
Applicant, Patent owner： 日東電工株式会社 ,  国立研究開発法人日本原子力研究開発機構
Agent (1)： 鎌田 耕一
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2013067306
Publication number (International publication number)：2013227548
Patent number：6044895
Application date： Mar. 27, 2013
Publication date： Nov. 07, 2013
Claim (excerpt)：

【請求項1】 加速させたイオンから構成されるイオンビームを高分子フィルムに照射して、前記ビーム中のイオンが衝突した高分子フィルムを形成する工程(I)と、 前記形成した高分子フィルムを化学エッチングして、前記イオンの衝突の軌跡に対応する開口および/または貫通孔を前記高分子フィルムに形成する工程(II)と、を含み、 前記工程(I)において、 圧力100Pa以上の雰囲気に前記高分子フィルムを配置し、 前記イオンビームを、前記雰囲気よりも低い圧力に保たれたビームラインならびに前記ビームラインの末端に配置された、前記ビームラインと前記雰囲気とを分離する圧力隔壁シートを通過させて、前記雰囲気にある前記高分子フィルムに照射する、多孔性高分子フィルムの製造方法。

IPC (5)：

C08J 9/36 ( 200 6.01) ,  G21K 5/04 ( 200 6.01) ,  G21K 5/00 ( 200 6.01) ,  G21K 5/10 ( 200 6.01) ,  C08J 9/00 ( 200 6.01)

FI (7)：

C08J 9/36 CER ,  G21K 5/04 A ,  G21K 5/00 W ,  G21K 5/00 B ,  G21K 5/10 S ,  G21K 5/04 S ,  C08J 9/00 CEZ Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

• 特公昭46-005680
  
• 特表平1-500577
  
• ビーム加工装置およびビーム観察装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-247498   Applicant：株式会社平出精密, 野村ユニソン株式会社, 学校法人東洋大学, 長野県
• ビーム加工装置、ビーム観察装置およびビームの焦点調整方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-324147   Applicant：株式会社平出精密, 学校法人東洋大学, 長野県
• 環境応答機能を有する多孔性ポリマー膜の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-211958   Applicant：日本原子力研究所
• エネルギー線を用いた構造物の接合方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-121429   Applicant：株式会社荏原製作所
• 高分子材料の微細構造形成方法、微細構造体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2010-053172   Applicant：独立行政法人日本原子力研究開発機構, 学校法人早稲田大学
• 平滑化処理方法及びそれにより得られる物品
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-218728   Applicant：大日本印刷株式会社
• 特開昭63-154750