高分子材料の微細構造形成方法、微細構造体

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (2)：堀城之 , 前島幸彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010053172
Publication number (International publication number)：2011184626
Application date： Mar. 10, 2010
Publication date： Sep. 22, 2011
Summary：

【課題】耐熱性の低い高分子材料からなる微細構造体を得る。【解決手段】まず、PLLAの薄膜層を形成する(薄膜形成工程)。その後、このPLLA薄膜層に対してFIB加工を行う(加工工程)。薄膜形成工程においては、まず、PLLAを溶剤中に溶解して希釈した塗布液を製造する(塗布液準備:S1)。次に、この塗布液を基板上に回転塗布する(回転塗布:S2)。次に、FIB装置を用いて、基板上のPLLA薄膜に対して、集束されたイオンビームを照射する(FIB加工:S3)。ここでは、PLLA薄膜層12の厚さを1μm以下となるように設定し、イオンビームの電流を1nA以下となるように設定する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

絶縁性の高分子材料からなる構造体を形成する微細構造形成方法であって、導電性の基板上に、厚さ1μm以下の前記高分子材料からなる薄膜層を形成する薄膜形成工程と、前記薄膜層に対して、真空中で1nA以下の電流で集束イオンビームを照射して前記薄膜層のエッチング加工を行うことによって、前記構造体を得る加工工程と、を具備することを特徴とする、高分子材料の微細構造形成方法。

IPC (3)：

C08J 7/00 , B81C 1/00 , B23K 15/00

FI (4)：

C08J7/00 307 , C08J7/00 , B81C1/00 , B23K15/00 508

F-Term (13)：

3C081AA04 , 3C081CA02 , 3C081CA17 , 3C081CA31 , 3C081DA10 , 4E066BA13 , 4E066BE08 , 4E066CB18 , 4F073AA32 , 4F073BA23 , 4F073BB01 , 4F073CA51 , 5C034DD09

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

高分子多段ナノワイヤー及びスターバースト型ナノ粒子並びにそれらの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2007-064288 Applicant：独立行政法人日本原子力研究開発機構, 国立大学法人大阪大学
パターン描画方法、マスクおよびマスク製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-318562 Applicant：学校法人早稲田大学
3次元金属微細構造体の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-077393 Applicant：独立行政法人理化学研究所

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Cited by examiner (2)

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