マイクロ波表面波励起プラズマ成膜装置

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：大川宏
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2015234937
Publication number (International publication number)：2017101281
Application date： Dec. 01, 2015
Publication date： Jun. 08, 2017
Summary：

【課題】被処理材に均一に成膜できるマイクロ波表面波励起プラズマ成膜装置を提供すること。【解決手段】チャンバー1内に突出する突出導波管52bを備え、突出導波管52bは少なくともマイクロ波の半波長より長く、マイクロ波取り出し部6は突出導波管52bに形成されるマイクロ波の定在波MS0の腹を望む突出導波管52bの管壁52b0に配置される。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

チャンバーと、前記チャンバー内に原料ガスを供給する原料ガス供給部と、前記チャンバー内のガスを排出するガス排出部と、マイクロ波を発生させるマイクロ波発振器と、前記マイクロ波発振器で発生したマイクロ波を前記チャンバー内部に伝播させる導波管と、前記導波管から前記マイクロ波を取り出し前記チャンバー内に配設される導電体被処理物に伝播させるマイクロ波取り出し部と、前記導電体被処理物に負バイアス電圧を印加する負電圧印加部と、を有し、前記原料ガスを前記マイクロ波でプラズマ化して前記導電体被処理物の表面に前記原料ガス由来の被膜を形成するマイクロ波表面波励起プラズマ成膜装置であって、前記導波管は前記チャンバー内に突出する突出導波管を備え、前記突出導波管は少なくとも前記マイクロ波の半波長より長く、前記マイクロ波取り出し部は前記突出導波管の内部空間に形成される前記マイクロ波の定在波の腹を望む前記突出導波管の管壁に配設されているマイクロ波表面波励起プラズマ成膜装置。

IPC (2)：

C23C 16/511 , H05H 1/46

FI (2)：

C23C16/511 , H05H1/46 B

F-Term (33)：

2G084AA05 , 2G084BB14 , 2G084BB15 , 2G084BB21 , 2G084BB35 , 2G084CC16 , 2G084DD04 , 2G084DD11 , 2G084DD12 , 2G084DD16 , 2G084DD17 , 2G084DD18 , 2G084DD22 , 2G084DD25 , 2G084DD32 , 2G084DD38 , 2G084DD44 , 2G084DD56 , 2G084DD61 , 2G084DD62 , 2G084DD66 , 2G084DD68 , 2G084EE01 , 2G084FF08 , 2G084FF32 , 4K030AA06 , 4K030AA10 , 4K030AA16 , 4K030BA28 , 4K030FA01 , 4K030KA26 , 4K030KA30 , 4K030KA45

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

成膜装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2013-069710 Applicant：ブラザー工業株式会社, 国立大学法人名古屋大学
電磁波プラズマ発生装置、その発生方法、その表面処理装置、およびその表面処理方法。
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2007-239533 Applicant：国立大学法人名古屋大学, 有限会社コンタミネーション・コントロール・サービス
マイクロ波プラズマCVD装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-303245 Applicant：東洋鋼鈑株式会社

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