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J-GLOBAL ID：201802213022844264   Reference number：18A1330542

Chip-scale pattern modification method for equalizing residual layer thickness in nanoimprint lithography

ナノインプリントリソグラフィーにおける残留層厚均一化のためのチップスケールパターン修正法

Author (3)： YOUN Sung-Won (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN) ,  SUZUKI Kenta (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN) ,  HIROSHIMA Hiroshi (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics  (JJAP)
Volume： 57  Issue： 6S1  Page： 06HG03.1-06HG03.7  Publication year： Jun. 2018 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *lithography ,  *semiconductor process ,  *cost ,  *circuit pattern generation ,  analysis ,  mold and pattern ,  computer simulation
Semi thesaurus term： *UV nanoimprint lithography ,  *low cost ,  histogram analysis ,  photo mask pattern

JST classification (2)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  General  (NC03161C)

Reference (35)：

• S. Y. Chou, P. R. Krauss, and P. J. Renstrom, Appl. Phys. Lett. 67, 3114 (1995).
• J. Haisma, M. Verheijen, K. van den Heuvel, and J. van den Berg, J. Vac. Sci. Technol. B 14, 4124 (1996).
• L. J. Guo, J. Phys. D 37, R123 (2004).
• S. Matsui, H. Hiroshima, Y. Hirai, and M. Nakagawa, Microelectron. Eng. 133, 134 (2015).
• H. Taylor and D. Boning, Proc. SPIE 7641, 76410U (2010).

Terms in the title (5)： ナノインプリントリソグラフィー ,  残留 ,  層厚 ,  均一化 ,  修正法