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J-GLOBAL ID：201802226225962122   Reference number：18A0462843

Impact of Tungsten Content on the Surface Properties of TiN Films

TiN膜の表面特性に及ぼすタングステン量の影響

Author (4)： KITAMIKA Yudai (Saga Univ., Saga) ,  SHINGU Hayato (Saga Univ., Saga) ,  TANIGAWA Shuhei (Saga Univ., Saga) ,  HASEGAWA Hiroyuki (Saga Univ., Saga)
Material： 表面技術  (Journal of the Surface Finishing Society of Japan)
Volume： 69  Issue： 3  Page： 123-125  Publication year： Mar. 01, 2018 
JST Material Number： G0441B  ISSN： 0915-1869  CODEN： HYGIEX  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *titanium compound ,  *nitride ,  tungsten ,  sputtered deposition ,  magnetron sputtering ,  *ceramic membrane ,  *indentation hardness ,  crystal structure ,  *oxidation resistance
Semi thesaurus term： RF magnetron sputtering ,  *titanium nitride

JST classification (2)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A) ,  Properties of ceramics and ceramic whiteware  (YC03030G)

Reference (10)：

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• 3)V.V. Uglov, D.P. Rusalski, S.V. Zlotski, A.V. Sevriuk, G. Abadias, S.B. Kislitsin, K.K. Kadyrzhanov, I.D. Gorlachev, S.N. Dub; Surf. Coat. Technol., 204, 2095(2010).
• 4)J. B. Choi, K. Cho, M.-H. Lee, K. H. Kim; Thin Solid Films, 447-448, 365(2004).
• 5)A. Akbari, J. P. Riviere, C. Templier, E. L. Bourhis; Surf. Coat. Technol., 200, 6298(2006).

Terms in the title (3)： TiN膜 ,  表面特性 ,  タングステン