Art

J-GLOBAL ID：201802229770197890   Reference number：18A1330577

Preparation of hydrogenated amorphous carbon films using a microsecond-pulsed DC capacitive-coupled plasma chemical vapor deposition system operated at high frequency up to 400 kHz

400kHzまでの高周波で動作するマイクロ秒パルスDC容量結合プラズマ化学蒸着システムを用いた水素化非晶質炭素膜の作製

Author (3)： AL MAMUN Md Abdullah (Kochi Univ. Technol., Kochi, JPN) ,  FURUTA Hiroshi (Kochi Univ. Technol., Kochi, JPN) ,  HATTA Akimitsu (Kochi Univ. Technol., Kochi, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics  (JJAP)
Volume： 57  Issue： 6S2  Page： 06JF02.1-06JF02.8  Publication year： Jun. 2018 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *plasma ,  *plasma CVD ,  *hydride ,  *carbon material ,  plasma diagnostics ,  *current-voltage characteristic ,  emission spectrum ,  spectral line shift ,  *pulse plasma ,  *capacitively coupled plasma ,  *hydrogenated amorphous carbon ,  *discharge characteristics ,  Raman shift ,  *RF plasma
Semi thesaurus term： *radio frequency plasma

JST classification (3)： Plasma diagnostics  (BJ02090L) ,  Carbon and its compounds  (YB02060D) ,  Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A)

Reference (40)：

• J. Robertson, Mater. Sci. Eng. R 37, 129 (2002).
• A. Grill, Diamond Relat. Mater. 8, 428 (1999).
• J. Robertson, Jpn. J. Appl. Phys. 50, 01AF01 (2011).
• Y. Lifshitz, Diamond Relat. Mater. 8, 1659 (1999).
• S. Aisenberg and R. Chabot, J. Appl. Phys. 42, 2953 (1971).

Terms in the title (10)： 高周波 ,  マイクロ秒 ,  パルス ,  DC ,  容量結合プラズマ ,  化学蒸着 ,  水素化 ,  非晶質 ,  炭素膜 ,  作製