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J-GLOBAL ID：201803002242471421

レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

Inventor：
杉原 昌子

About 杉原 昌子

, 
河村 麻貴

About 河村 麻貴


Applicant, Patent owner：
住友化学株式会社

About 住友化学株式会社


Agent (2)： 中山 亨 ,  坂元 徹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2017164049
Publication number (International publication number)：2018018087
Application date： Aug. 29, 2017
Publication date： Feb. 01, 2018
Summary：
【課題】優れた形状のレジストパターンを製造できるレジスト組成物を提供する。【解決手段】酸の作用によりアルカリ水溶液への溶解性が増大する樹脂、酸発生剤、式(I)で表される化合物及び溶剤を含むレジスト組成物であって、溶剤の含有量が、レジスト組成物の総量に対して、40〜75質量%であるレジスト組成物。[式(I)中、環W1は、環を構成する原子として窒素原子を有する複素環、あるいは、置換又は無置換のアミノ基を有するベンゼン環を表す。A1は、フェニル基又はナフチル基を表す。nは、2又は3を表す。]【選択図】なし
Claim (excerpt)：
酸の作用によりアルカリ水溶液への溶解性が増大する樹脂、ノボラック樹脂、酸発生剤、式(I)で表される化合物及び溶剤を含むレジスト組成物であって、 溶剤の含有量は、レジスト組成物の総量に対して、40〜75質量%であるレジスト組成物。
IPC (5)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  C08F 20/18 ,  C08F 12/22 ,  G03F 7/20
FI (7)：
G03F7/004 501 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  C08F20/18 ,  C08F12/22 ,  G03F7/20 501 ,  G03F7/20 521
F-Term (42)：
2H197CA05 ,  2H197CE10 ,  2H197HA02 ,  2H197HA03 ,  2H225AF82P ,  2H225AF83P ,  2H225AH04 ,  2H225AH12 ,  2H225AJ04 ,  2H225AJ13 ,  2H225AJ48 ,  2H225AJ53 ,  2H225AM66P ,  2H225AM79P ,  2H225AM86P ,  2H225AN39P ,  2H225AN63P ,  2H225AN85P ,  2H225AN86P ,  2H225BA26P ,  2H225BA33P ,  2H225CA12 ,  2H225CB06 ,  2H225CC03 ,  2H225CC15 ,  4J100AB07P ,  4J100AB07Q ,  4J100AL03Q ,  4J100AL16P ,  4J100AL16R ,  4J100BA02Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA08P ,  4J100BA08R ,  4J100CA03 ,  4J100DA01 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100GC07 ,  4J100GC16 ,  4J100GC22 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (7)
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