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J-GLOBAL ID：201803006364926700

電磁波のビーム観測方法及び観測システム

Inventor： 福田 承生 ,  加藤 康作 ,  邱 紅松 ,  ▲高▼野 恵介 ,  中嶋 誠 ,  吉村 政志 ,  エンピゾ メルヴィン ジョン フェルナンデス ,  南 佑輝 ,  山ノ井 航平 ,  清水 俊彦 ,  猿倉 信彦 ,  立松 芳典 ,  出原 敏孝 ,  クトリャン エドワード ミハイロヴィチ ,  谷 正彦
Applicant, Patent owner： 株式会社福田結晶技術研究所 ,  国立大学法人大阪大学 ,  国立大学法人福井大学
Agent (1)： 福森 久夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2016170007
Publication number (International publication number)：2018036158
Application date： Aug. 31, 2016
Publication date： Mar. 08, 2018
Summary：

【課題】ジャイロトロン等によって発生するマイクロ波、テラヘルツ波、赤外光のビームの位置またはプロファイルのより簡便な観測方法及びシステムを提供すること。【解決手段】酸化亜鉛結晶からの発光を用いることによってジャイロトロンなどから出る電磁波のビームの位置またはプロファイルを観測する方法及びシステム。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

マイクロ波、テラヘルツ波または赤外光のビームの位置またはプロファイルを観測する方法において、酸化亜鉛結晶からの発光を用いることを特徴とする電磁波のビーム観測方法。

IPC (3)：

G01J 1/02 ,  C30B 29/16 ,  G01J 1/42

FI (3)：

G01J1/02 L ,  C30B29/16 ,  G01J1/42 E

F-Term (12)：

2G065AA20 ,  2G065AB02 ,  2G065AB03 ,  2G065BA04 ,  2G065BA06 ,  2G065BA34 ,  4G077AA02 ,  4G077AB04 ,  4G077BB07 ,  4G077CB03 ,  4G077HA02 ,  4G077KA15

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 光強度分布検出方法、光強度分布検出装置、アニール装置及びアニール方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-020104   Applicant：株式会社液晶先端技術開発センター
• 半導体結晶の欠陥評価方法及び評価装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-219745   Applicant：独立行政法人宇宙航空研究開発機構
• テラヘルツ電磁波発生装置及び発生方法並びに基体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-342677   Applicant：国立大学法人東北大学

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• Upconversion luminescence and optical power limiting effect based on two- and three-photon absorptio